МАГНИТНО - АБРАЗИВНОЕ ПОЛИРОВАНИЕ 磁研磨抛光

Научно-технологический парк БНТУ «Политехник»白俄罗斯国立技术大学 « 理工 » 科技园

Научно-инженерное республиканское унитарное предприятие «Полимаг»

国家统一企业 « 聚合材料 » 科学工程企业

Тема доклада: Формирование сверхгладких бездефектных поверхностей магнитно-абразивным полированием для оптики, лазерной техники,

электроники и нанотехнологий报告题目：磁研磨抛光成型加工超光滑无瑕疵表面，用于光学技术、激光技术、

电子技术和纳米技术www.polimag.icm.by

Автор доклада 报告的作者 :директор НИРУП «Полимаг»,

к.т.н. Хомич Н.С.国家统一企业 « 聚合材料 » 科学工程企业经理

技术科学副博士 霍米奇 . Ｎ . Ｃ

МАГНИТНО - АБРАЗИВНОЕ

ПОЛИРОВАНИЕ磁研磨抛光

Ферроабразивный порошок под действием магнитного поля приобретает вид «эластичной щетки» и полирует поверхность изделия.

铁研磨粉在磁场作用下获得弹性刷状可抛光制品的表面Импульсное магнитное поле «встряхивает» структуру материала

и выводит на поверхность слабозакрепленные дефекты.脉冲磁场 « 振荡 » 材料的结构并将弱加固性缺陷引入表面。

Формируется бездефектный приповерхностный слой.形成无缺陷性表面层。

Финишное магнитно-абразивное полирование пластин монокристаллов кремния (подложки интегральных схем),

оптических стекол и фторидов бария, кальция и магния (оптически активные элементы силовых лазерных устройств)

обеспечивает формирование нанорельефа поверхностей с высотой неровностей менее 20-и ангстрем,что соответствует лучшим мировым образцам

最终磁研磨抛光单晶硅片（集成电路基板）、光学玻璃和氟化钡、钙和镁（高功率激光装置光学活性成份）可保证形成表面微地形，表面粗糙度低于 20 埃米。

ПОЛИРОВАНИЕ ДЕТАЛЕЙ ОПТИКИ И ЭЛЕКТРОНИКИ光电技术零件的抛光

Привод диска

Станина

Опора

Привод полюса

Полюс

Ферроабразивный порошок

Пласти-на

Катушка

Диск

М А Г Н И Т Н О - А Б Р А З И В Н А Я О Б Р А Б О Т К А polimag@mail.ru

Установка 3905Схема установки- диаметр полируемых пластин, мм < 300

- толщина пластин, мм < 10 Примеры применения:- характеристика шероховатости - полирование пластин монокристаллов кремния - полированной поверхности Ra, нм 0,8 – 2,0 подложек интегральных схем,- потребляемая энергия, кВт 2,0 - полирование плоских поверхностей оптических - габариты: L х B х H, м 1,0 х 0,7 х 1,3 стекол, фторидов, керамических и других- масса, кг 250 материалов оптики и электроники

ПОЛИРОВАНИЕ ДЕТАЛЕЙ ОПТИКИ И ЭЛЕКТРОНИКИ光电技术零件的抛光

磁盘驱动

托架

支架

磁极驱动

磁极

铁研磨粉

薄片

线圈

圆盘

磁研磨处理 polimag@mail.ru

安装 3905 安装图解

- 抛光板直径，毫米 < 300- 薄片厚度，毫米 < 10 :- 特征粗糙度 -Ra 抛光表面，纳米 0,8 – 2,0 -- 能耗，千瓦特 2,0- 尺寸 : L х B х H, м 1,0 х 0,7 х 1,3- 质量，千克 250应用举例：抛光单晶硅片 - 集成电路基板 – 抛光光学玻璃平面、氟化物、陶瓷及其它光电材料。

Изотропность нанорельефа пластины кремния диаметром 150 мм

直径为 150 毫米的硅晶片微地形的各向同性

磁研磨处理 polimag@mail.ru

The technology of magnetic-abrasive polishing The technology of magnetic-abrasive polishing high-precision flat surfaceshigh-precision flat surfaces MA08MA08

Technical characteristics:

Diameter of parts – 20…200 mm

Parts thickness – < 5 mm

Time of polishing – 2…15 min

Power input – 1,5 kW

L×B×H – 700×700×500 mm

Weight – 80 kg

The setup model MA08 is used for ultrathin polishing of high-precision flat parts surfaces of optics, electronics and laser technologies.

Пластина монокристалла кремния после полирования в магнитном поле TTV = 2,9 мкм

在 TTV = 2.9 微米磁场里抛光后的单晶硅板

Топограмма поверхности пластины монокристалла кремния после полирования в магнитном поле Ra = 0,72 nm

在 Ra = 0.72 nm 磁场里抛光后的单晶硅板表面内存储信息图示

Топограмма поверхности пластины монокристалла CaF2 после полирования в магнитном поле Ra = 1,537 nm

在 Ra = 1.537 nm 磁场里抛光后的 CaF2 单晶硅板表面内存储信息图示

Программно-управляемый комплекс для полирования прецизионных поверхностей

用于抛光精密表面的程序管理系统

The computer controlled magnetic-abrasive polishing technology for optical aspherical surfaces А09

Technical characteristics:

Diameter of parts – under 100 mm

Time of polishing – 2…15 min

Power input – 1,5 kW

L×B×H – 700×600×500 mm

Weight – 80 kg

Technology is intended for correction of polished optical surface figure errors. Correction technique is automatic surface scanning with flexible tool which has reproducible influence function.

Интерферограммы поверхности оптической детали до МАП (а) и после МАП (б)

磁化前（ a ）和磁化后（ b ）光学零件表面干扰图

PV=1,349 fr PV=0,370 fr а) RMS=0,371 fr б) RMS=0,053 fr

Power=-1,192 fr Power=-0,130 fr Ra = 13,9 nm Ra = 1,5 nm - улучшение формы в 3-5 раз за одну итерацию - снижение параметров нанорельефа в 8-10 раз.- 一次迭代内形态改进 3-5 次。- 微地形参数降低 8-10 倍。