gamma 10ech実験における 粒子バランスの研究 - …dmcc nlcc 0-4 wb] 0 13 m-2] time (ms)...
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GAMMA 10ECH実験における粒子バランスの研究
筑波大学プラズマ研究センター細井克洋 GAMMA 10グループ
京都大学エネルギー理工学研究所小林進二
Contents
1. 研究背景と目的2. 実験装置3. セントラルECH実験
3-1 典型的な実験例3-2 電位による閉じ込め効果3-3 リミターの効果3-4 ICRFパワーとプラズマ持続性との関係3-5 ガス入射量とプラズマ持続性との関係
4. 考察(シミュレーションに基づく粒子バランス解析)5. 結論
研究背景
・ GAMMA 10では電子サイクロトロン加熱 (ECH)がセントラル部とプラグバリア部で行われている。セントラル部では電子加熱を、プラグバリア部では閉じ込め電位形成を目的として運用されている。
セントラル部でのECH印加時に、効果的な電子加熱が行われた場合、プラズマの蓄積エネルギーの上昇が観測される。しかしながら、ECH印加時に蓄積エネルギーの減少が観測されることがあり、同時に電子線密度も減少している。このプラズマ性能劣化は、ECH印加に起因する粒子損失によるものであると推測される。
・ GAMMA 10では初期プラズマをプラズマガンにより生成し、イオンサイクロトロン共鳴加熱(ICRF)により加熱、維持している。
Ti >> Te 電子ドラッグ プラズマ高性能化を阻害電子ドラッグ・・・イオンと電子とのクーロン衝突により高温イオンから低温電子にエネルギーが遷移すること
本研究ではプラズマ性能劣化と粒子損失との関係を明らかにするためにセントラル部と両エンド部において損失粒子を測定した。
粒子バランス方程式
N
Γ⊥
Γ//
Γ//
Γs
GAMMA 10 における粒子バランス方程式を簡単に書き表すと以下のようになる。
dN/dt = Γs - Γ⊥ - Γ//
N : プラズマ粒子の総数Γs : 粒子生成項Γ⊥ : 径方向の損失項Γ// : 軸方向の損失項
C-ECH印加に伴い、径方向と軸方向共に、損失流が増えてしまうことが問題。
1. セントラル部でのC-ECH印加時間帯においてプラズマ性能が劣化するメカニズムを解明する。
2. 粒子生成量と損失量を定量的に調べることにより、粒子バランスの観点から、実験条件の改善手法を模索する。
本研究の目的
粒子バランスの模式図
開放端磁場系の粒子損失の原理
磁場勾配の有るところにECHを印加す
ると、磁場の弱い方向に電子が吐き出され、その一部が軸方向の損失粒子となる。それに伴い、プラズマの電気的中性を保つために径方向にイオンが損失すると考えられている。
ECH
B
Γ⊥
Γ//
Γ//
LED
LED
ISP
軸方向の電子損失流を多重グリッド型静電エネルギー分析器(LED)により計測
径方向のイオンの損失流をイオンセンシティブプローブ(ISP)により計測
ECH
電子
イオン
電子
e-
GAMMA 10全体図
central-cellanchorcell
plug/barriercell
end-cell
C-ECH
P-ECH P-ECH
Iris-E
Iris-WCC-Limiter(ESP)
anchorcell
plug/barriercell
end-cell
B-ECH B-ECH
East WestISP
SXLED LED
PG:プラズマガン・・・両エンド部から初期プラズマを入射GP:ガスパフ・・・プラズマへの水素供給ICRF:イオンサイクロトロン周波数帯発振器・・・プラズマの生成・加熱・維持C-ECH:電子サイクロトロン加熱・・・セントラル部での電子加熱P,B-ECH:電子サイクロトロン加熱・・・プラグ・バリア部における閉じ込め電位形成ISP:イオンセンシティブプローブ・・・セントラル部での径方向イオン流を計測LED:多重グリッド型静電エネルギー分析器・・・両エンド部にて端損失電子流を計測SX:軟X線検出器・・・ECH印加による電子温度上昇を計測
ICRF
PG PG
GP#3 GP#4
Ha線検出器&各リミターについて
X [cm]
Y [cm]
Z [cm]Ha Z= -1
Ha Z= -71
Ha Z= -141
Ha Z= -240
Ha Z= -310
Ha Z= -370
Ha Z= -520
East Iris Limiter
Z= -155
West Iris Limiter
Z= +100Central Limiter
Z= +30
Ha Z= +100
East Anchor Cell
Central Cell
Ha線検出器・・・中性粒子密度を計測。本研究では粒子生成量の指標とした。実験における粒子生成量の評価は各検出器近傍での評価となる。
IHa ∝ R1(p)nHne + R2(p) nH2ne
リミター・・・プラズマ径を制御。セントラルリミター(固定式)・・・φ360mm(昨年までは400mm)東西アイリスリミター(可動式)・・・内径を340~400mmで変更可能
典型的な実験結果
-10
-8
-6
-4
-2
0
LE
E W
est
[Arb
.U.]
0.5
0.6
0.7
0.8
0.9
1
DM
cc [10
-4 W
b]
C-ECRH
0
1
2
3
4
5
ISP
[Arb
.U.]
0
1
2
3
4
5
150 160 170 180 190 200Time [ms]
3
4
5
6
NLcc
[1
013 c
m-2
]
0.5
1
1.5
2
2.5Is
xL [
Arb
.U.]
0.5
1
1.5
2
2.5
IsxL
[A
rb.U
.]
3
4
5
6
NLcc
[1
013 c
m-2
]
-10
-8
-6
-4
-2
0
LE
E W
est
[Arb
.U.]
0
1
2
3
4
5
150 160 170 180 190 200
ISP
[Arb
.U.]
Time [ms]
0.5
0.6
0.7
0.8
0.9
1
DM
cc [10
-4 W
b]
C-ECRH
Good Shot Bad Shot
Good shotではBad shotに比べて径方向の粒子損失が少ない。
Bad shotでは電子線密度が減少しているが、 Good shot では減少しない。
C-ECH入射時間帯において・Good shot : 反磁性量増加・Bad shot : 反磁性量減少
プラズマ性能の劣化は粒子損失であると考えられる。
反磁性量 反磁性量
電子線密度 電子線密度
軟X線 軟X線
端損失電子
端損失電子
径方向イオン流
径方向イオン流
実験条件の改善
粒子バランス方程式から、
dN/dt = Γs - Γ⊥ - Γ//
1. 損失項( Γ⊥ + Γ// )を減らす閉じ込め改善: 閉じ込め電位を用いることで軸方向の粒子
損失を減少させる
2. 生成項( Γs )を増やす粒子供給量の増加 : リミターリサイクリング増加
: ICRFのパワーを上げる: ガス流入量を増やす
プラズマ性能の改善には、以上の方法が考えられる。
粒子バランスの観点から実験条件の改善方法を模索する。
軸方向の閉じ込め改善の効果
0
1
2
3
4
150 160 170 180 190 200
ESP7ESP2ESP3
ES
P[A
rb.U
.]
Time [ms]
-10
-8
-6
-4
-2
0
LE
E W
est
[Arb
.U.]
0.5
0.6
0.7
0.8
0.9
1
DM
cc [
10
-4 W
b] (a)
C-ECRH
0
1
2
3
4
5
ISP
[Arb
.U.]
3
4
5
6
NLcc
[1
013 c
m-2
]
0.5
1
1.5
2
2.5
IsxL
[A
rb.U
.]
0.5
0.6
0.7
0.8
0.9
1
DM
cc [
10
-4 W
b] (c)
C-ECRH
P-ECRH
B-ECRH
3
4
5
6
NLcc
[1
013 c
m-2
]
0
1
2
3
4
5
ISP
[Arb
.U.]
-10
-8
-6
-4
-2
0
LE
E W
est
[Arb
.U.]
0
1
2
3
4
140 150 160 170 180 190
ESP7ESP2ESP3
ES
P[A
rb.U
.]
Time [ms]
0.5
1
1.5
2
2.5
IsxL
[A
rb.U
.]
(A) (B)(A) 閉じ込め電位無しのECH印加(B) 閉じ込め電位有りのECH印加
閉じ込め電位による閉じ込め改善により、プラズマ性能が向上した。
閉じ込め電位による閉じ込め改善がなされ電子線密度の減少が抑えられた。
閉じ込め電位の形成のために吐き出された電子を計測しているので、C-ECHによる閉じ込め性能劣化では無い。
C-ECH時間帯で径方向損失が増えてい
るが、閉じ込め電位がない時に比べると軽減されている。
閉じ込め電位による損失粒子の変化
0.2
0.4
0.60.81
3
5
0.4 0.6 0.8 1
C-ECH印加前後の損失粒子流の比較
C-ECH単独
閉じ込め電位有
LED(C-ECH時間帯)/LED(閉じ込め電位有)
ISP(C-ECH時間帯)/ISP(RF時間帯)
LED(C-ECH時間帯)/LE
D(RF時間帯)
閉じ込め電位がない場合C-ECH印加時に損失粒子が増加
閉じ込め電位がある場合C-ECH印加時の径方向損失粒子が減少
閉じ込め電位形成時にC-ECHを印加しても端損失電子は増加しない。
軸方向閉じ込め電位により
軸方向損失だけでなく、径方向損失をも減らすことが出来る。
増大減少
増大
閉じ込め電位が無い場合の
ECH時間帯の信号の平均値
RF時間帯の信号量の平均値
閉じ込め電位が有る場合の
ECH時間帯の信号量の平均値
閉じ込め電位のみ時間帯の平均値
-10
-8
-6
-4
-2
0
LE
E W
est
[Arb
.U.]
-10
-8
-6
-4
-2
0
LE
E W
est
[Arb
.U.]
0
1
2
3
4
5
ISP
[Arb
.U.]
0
1
2
3
4
5
ISP
[Arb
.U.]
平均値 平均値
平均値 平均値
平均値
平均値 平均値
2
軸方向損失
径方向損失
実験条件の改善
粒子バランス方程式から、
dN/dt = Γs - Γ⊥ - Γ//
1. 損失項( Γ⊥ + Γ// )を減らす閉じ込め改善: 閉じ込め電位を用いることで軸方向の粒子
損失を減少させる
2. 生成項( Γs )を増やす粒子供給量の増加 : リミターリサイクリング増加
: ICRFのパワーを上げる: ガス流入量を増やす
粒子バランスの観点から実験条件の改善方法を模索する。
リミターリサイクリングによる粒子供給リミターリサイクリングによる粒子生成量を変化させるため、リミター径を変化させた実験を行った。
リミター径:350 mm
(リサイクリング大)
リミター径:380 mm
(リサイクリング小)
・ リミター径が狭い場合、 C-ECH印加によるプラズマの消滅を回避出来た。→リミターリサイクリングによる粒子生成量の増加が、C-ECH印加に伴って増加する損失粒子を補填していると考えられる。
0
0.2
0.4
0.6
0.8
1
0
2
4
6
8
10
50 100 150 200 250
DMcc NLcc
DM
cc [10
-4 W
b] N
Lcc [1
013 cm
-2]
Time (ms)
215932
0
0.2
0.4
0.6
0.8
1
0
2
4
6
8
10
50 100 150 200 250
DMcc NLcc
DM
cc [1
0-4
Wb] N
Lcc [1
013 cm
-2]
Time (ms)
215933
0
0.2
0.4
0.6
0.8
1
0
2
4
6
8
10
50 100 150 200 250
DMcc NLcc
DM
cc [10
-4 W
b] N
Lcc [1
013 cm
-2]
Time (ms)
215934
0
0.2
0.4
0.6
0.8
1
0
2
4
6
8
10
50 100 150 200 250
DMcc NLcc
DM
cc [10
-4 W
b] N
Lcc [1
013 cm
-2]
Time (ms)
215935
ICRFパワーとプラズマ持続性の関係
C-ECH
ICRFパワーに対する依存性
実験条件は以下で統一C-ECH : 160-175ms 150kW, GP#3,4 : 73 torr
Iris-E : φ350mm, Iris-W : φ400mm
:矢印の順番で連続したShot
ICRFのパワーを下げると⇒イオン温度が低下⇒リサイクリング係数が減少⇒電離効率も低下
粒子生成量が減少すると、⇒プラズマが維持できなくなる⇒プラズマが消滅
150 kW 140 kW
120 kW 150 kW
ガス流入量とECH時のプラズマ持続性の関係
ガスパフのリザーバ圧に対する依存性
C-ECH
実験条件は以下で統一C-ECH : 160-175ms 100kW, RF2 : 150kW
Iris-E : φ350mm, Iris-W : φ400mm
ガスパフのリザーバ圧を下げていくと、(71→67→65 torr)⇒反磁性量の減少が大
粒子供給量を少なくしすぎると⇒プラズマが消滅
ECH印加時間帯に、十分に粒子生成量を確保しないと
⇒供給・損失粒子のバランス崩壊
⇒プラズマが消滅
:矢印の順番でほぼ連続したShot
0
0.2
0.4
0.6
0.8
1
0
2
4
6
8
10
50 100 150 200 250
215949
DMcc NLcc
DM
cc [10
-4 W
b] N
Lcc [1
013 cm
-2]
Time (ms)
0
0.2
0.4
0.6
0.8
1
0
2
4
6
8
10
50 100 150 200 250
215953
DMcc NLcc
DM
cc [
10
-4 W
b] N
Lcc [1
013 c
m-2]
Time (ms)
0
0.2
0.4
0.6
0.8
1
0
2
4
6
8
10
50 100 150 200 250
215951
DMcc NLcc
DM
cc [10
-4 W
b] N
Lcc [1
013 cm
-2]
Time (ms)
0
0.2
0.4
0.6
0.8
1
0
2
4
6
8
10
50 100 150 200 250
215952
DMcc NLcc
DM
cc [10
-4 W
b] N
Lcc [1
013 cm
-2]
Time(ms)
71torr 67torr
65torr 65torr
実験結果のまとめ
1. 損失項( Γ⊥ + Γ// )を減らす閉じ込め改善: 閉じ込め電位を用いることで軸方向の粒子損
失を減少させる
⇒ 軸方向だけでなく、径方向の損失粒子が抑制できることが分かった。
2. 生成項( Γs )を増やす粒子供給量の増加 : リミターリサイクリング増加
: ICRFのパワーを上げる: ガス流入量を増やす
⇒ 粒子生成量を増やすことで、C-ECH印加に伴うプラズマ消滅は回避出来る。これは異なる粒子源からの粒子供給においても同様に成立する。しかし、これはあくまでHa線検出器近傍の議論しか出来ない。
径全体での粒子生成量の評価する必要がある
中性粒子シミュレーションを用いた粒子生成量の評価
各実験条件に対するHa線発光輝度の依存性から粒子生成量を評価した。しかし、粒子生成量はHa線検出器近傍でしか議論が出来ない。
セントラル部全体の粒子バランスを定量的に議論するために、中性粒子輸送モンテカルロコード(DEGASコード)を用いてセントラル部全体の中性粒子密度の算出を行った。
DEGASコードについてDEGASコード(中性粒子モンテカルロシミュレーションコード)は、プラズマ中の中性粒子密度・温度をモンテカルロ法を用いて求める
シミュレートする領域→メッシュ状に区分 各ボリューム(cell)にプラズマの密度、温度等を入力
中性粒子の原子・分子過程を考慮し、その軌道を追うD. Heifetz, D. Post, M. Petravic et al., J. Comput. Phys. 46, 309 (1982).
これまでにGAMMA 10 だけでなく、JT-60やHeliotron-Jに適応され、中性粒子輸送等の研究に多大な貢献をしてきた。
GAMMA 10
Heliotron-J
JT-60
3次元シミュレーションモデル
Central Limiter
Plasma
GP#3
ICRF Antenna
Gas Box
East Iris Limiter West Iris Limiter
Z
Y
X
Central CellEast Anchor Cell
Mid-plane (Z = 0)Inner Mirror Throat
ICRF Antenna
Gas Box
New
GP#4
West Anchor Cell
New
Inner Mirror Throat
以前はセントラル部の片側の内部構造のメッシュしかなかったが、今回セントラル部全領域において、内部構造を模擬したメッシュが完成した。
3次元シミュレーションモデル
Central Limiter
Plasma
GP#3
ICRF Antenna
Gas Box
East Iris Limiter West Iris Limiter
Z
Y
X
Central CellEast Anchor Cell
Mid-plane (Z = 0)Inner Mirror Throat
ICRF Antenna
Gas Box
New
GP#4
West Anchor Cell
New
Inner Mirror Throat
DEGASコードによる粒子生成量の評価
真空容器内の特定の構造物(リミター等)に粒子源を与え、中性粒子密度分布を算出し、求めた中性粒子密度からHa発光強度を求める。Ha線検出器の視野と同等の視野を持つように視線方向に積分した値を算出し、実測値に合うように規格化した。この値を粒子生成量の指標とした。
リミターに均一な粒子源を与える
0
1
2
3
4
5
-300 -200 -100 0 100 200 300
Ha
IN
TE
NS
ITY
[re
l.U.]
Z [cm]
Ha線検出器の視線に合うように積分した
セントラル部の全領域における粒子生成量を評価した。
Ha線検出器
Ha Ha
0
1
2
3
4
5
-300 -200 -100 0 100 200 300
Ha
IN
TE
NS
ITY
[re
l.U
.]
Z [cm]
0
2
4
6
8
10
-500 -450 -400 -350 -300 -250 -200 -150
71 [torr]
z [cm]
Ha
IN
TE
NS
ITY
[re
l.U.]
0
2
4
6
8
10
-500 -450 -400 -350 -300 -250 -200 -150
65 [torr]
z [cm]
Ha
IN
TE
NS
ITY
[re
l.U.]
リミター径:小 リミター径:大
ガス流入量:大 ガス流入量:小
C-ECH印加実験において、プラズ
マが続いたショットと消滅したショットに対する粒子生成量をDEGASコードから算出した軸方向のHa線発光強度を用いて比較した。
プラズマ消滅プラズマ持続
1.22 倍
シミュレーション解析結果
0
1
2
3
4
5
-300 -200 -100 0 100 200 300
Ha
IN
TE
NS
ITY
[re
l.U.]
Z [cm]
1.30倍
どの結果も20~30%の粒子生成
量の増加でプラズマの消滅を回避していることが分かった。
中性粒子シミュレーションを用いることで、実験条件最適化の定量的な指針を得られることが分かった。GP入射位置
各リミター位置
1.22 倍
粒子生成量の評価
Σ Γs(r, z)
Σ Γs(r, z)
結論
C-ECH印加時間帯におけるプラズマ挙動とプラズマ性能劣化について詳細な調査を行った。LED、ISP、Ha線検出器等の計測結果から以下のことが分かった。
C-ECH単独印加時に粒子損失が助長され、それによりプラズマ性能の劣化が引き起こされる。
軸方向の閉じ込め電位形成により、粒子閉じ込めは軸方向だけでなく、径方向にも改善される。
リミター径、ガス流入量、ICRFのパワーにより、粒子生成量を制御し、プラズマの消滅を防ぐことが出来た。
DEGASコードを用いて、プラズマ生成量の全量を評価することにより、中性粒子輸送シミュレーションがプラズマの実験条件の最適化のための有効な手段となり得ることが示せた。
粒子バランスの観点から、C-ECH印加実験におけるプラズ
マ性能の改善を行い、実験条件最適化に向けた有益な知見を得ることが出来た。
今後の展望
NBI
NBI入射に伴う中性粒子の輸送がシミュレーションにより明らかになった。
SMBIにおいても同様のシミュレーションを行うことで、中性粒子の挙動を詳細に解析することが出来る。
SMBI実験における中性粒子挙動解析に向けて
エンドダイバータ模擬実験における中性粒子挙動解析
現在第一壁の簡単なメッシュは完成している。今後内部の詳細な構造物等を作り、ダイバータ周辺領域の中性粒子挙動の解析を行っていきたい。
NBI入射に伴う中性粒子挙動 西エンド部の第一壁を模擬したメッシュ