phase locked loop回路を用いた tdcの開発 -...
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名大理、KEK素核研A、Open-ItB 小野木 宏太、戸本誠、堀井泰之、臼井主紀、浦義博、佐々木修AB、田中真伸AB
1/9
Phase Locked Loop回路を用いたTDCの開発
Introduction 2/9
刻み時間100ps以下の汎用性に優れたPLL回路を用いたTDC回路を開発
使用するASIC - Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd(TSMC社) - 180nm CMOSプロセス (L 最小値: 180nm )
Time to digital converter(TDC) - ドリフトチェンバー : ~1ns 刻み時間 - 粒子の飛行時間計測 : ~100ps 刻み時間 TDCの設計方法 - TAC方式: psの分解能を達成できるが、設計が困難。 - カウンタ方式: psの分解能では、GHzのクロックソースが必要。 - インバータを用いたPhase locked loop(PLL)方式:
開発が容易。ICプロセスの微細化に伴い、高速動作が可能。
プロセスのよる高速化の限界値を理解
PLL方式を用いたTDC回路 3/9
PLL出力1 PLL出力2
PLL出力n
入力信号 0 0 0 . . . . . . . . . . . 0 1 1... TDC出力
dt x n遅延
ラッチ
入力信号
1/0 1/0 1/0 1/0
N個
PLL回路
位相周波数検出器
チャージ ポンプ
基準クロック(周期: T)
電圧制御発振回路(VCO), 奇数個(N)のインバータ
分周器
ローパスフィルター
制御電圧 (Vcon)
N 1 2 n
インバータの応答時間(dt)を制御
TDC回路設計の重要な要素 ① 電圧制御発振回路の設計 ② PLL回路の同期確認 ③ TDCの動作確認
- TDCの刻み時間
① 電圧制御発振回路(VCO)の設計 4/9
in out p
n
n
NN
P
→ e- →
メタル層 酸化膜
ソース ゲート ドレイン
チャンネル長(L)
パラメータによる特性変化 電流 ∝ W/L, 静電容量 ∝ W・L
インバータ+電流源
制御電圧 (Vcon)
Vcon
out1 out2
電圧制御発振回路(PLL回路) インバータ33個: インバータの応答時間とインバータ数(刻み数)より発振周期を決定
制御電圧と刻み時間の関係を確かめる。 - 電源電圧(定常1.8V)変化 - 温度変化
MOSFET
電流源(Vcon入力部分) 高速動作 W大 W=40μm, L =240nm インバータ部分 高速動作 L最小&W小 Wp=8μm, L =180nm Wn=4μm, L =180nm
TDCの制御可能な刻み時間領域: 58ps ~ 86ps
制御電圧(Vcon)と刻み時間の関係 5/9
電源電圧変化や温度変化した際に、制御電圧を変化させることで、刻み時間を一定に保つ必要がある。
Vcon[V]0.6 0.8 1 1.2 1.4 1.6 1.8
Del
ay[p
s/in
v. p
air]
40
50
60
70
80
90
100100
90
80
70
60
50
40
刻み時間[ps]
0.6 0.8 1.0 1.2 1.4 1.6 1.8 Vcon[V]
温度: 27℃
電源電圧変化
1.9V 1.8V 1.7V
制御電圧で制御可能な刻み時間領域 56~88ps
Vcon[V]0.6 0.8 1 1.2 1.4 1.6 1.8
Del
ay[p
s/in
v. p
air]
40
50
60
70
80
90
100電源電圧: 1.8V
0.6 0.8 1.0 1.2 1.4 1.6 1.8 Vcon[V]
100
90
80
70
60
50
40
刻み時間[ps] 温度変化
制御電圧で制御可能な刻み時間領域 58~86ps
0℃ 27℃ 50℃ 75℃
※ Vcon<0.6[V]は発振しない。
② PLL回路の同期確認 6/9
位相周波数 検出器
チャージ ポンプ
550/32MHz (1.818 ✕ 32ns)
電圧制御発振回路(33インバータ)
制御電圧(Vcon) 分
周器
1/32
100kΩ 500pF
0.915
0.91
0.905
0.90
0.89
0.895
0.885 200 250 300 350 400 450 500
time[μs]
V con[V]
time[s]0.2 0.200001 0.200002 0.200003 0.200004 0.200005
-310×
voltage[V]
0
0.5
1
1.5
2
Graph
0 1.0 2.0 3.0 4.0 5.0
0
0.5
1.0
1.5
2.0
time[ns](200μsを基準)
voltage[V]
200~500μsの制御電圧波形 200μs後の発振波形
1.818ns
減衰振動領域 収束領域
Vcon: 0.9V ふらつき: ±1mV
同期に必要: 制御電圧の収束, 一定の発振周期
1.815 1.816 1.817 1.818 1.819 1.82 1.821 1.822-910×0
0.02
0.04
0.06
0.08
0.1
0.12
0.14
0.16
0.18
② PLL回路の同期確認 7/9
200~500μsの制御電圧波形 発振波形のヒストグラム
周期[ns]
200μs-300μs 300μs-400μs 400μs-500μs
1.814 1.816 1.818 1.82 1.822
平均値: 1.8182ns 標準偏差: 0.23ps
0.915
0.91
0.905
0.90
0.89
0.895
0.885 200 250 300 350 400 450 500
time[μs]
V con[V]
Vcon: 0.9V ふらつき: ±1mV
同期に必要: 制御電圧の収束, 一定の発振周期
位相周波数 検出器
チャージ ポンプ
550/32MHz (1.818 ✕ 32ns)
電圧制御発振回路(33インバータ)
制御電圧(Vcon) 分
周器
1/32
100kΩ 500pF
③ TDC回路の動作確認 8/9
初期設定 - 制御電圧: 0.8V -> 刻み時間: 58.6ps -> 周期: 1.936ns
PLL回路 入力信号
ラッチ 1/0 1/0 1/0 1/0
電圧制御発振回路 制御電圧(Vcon)
20ps間隔でTDC出力のスキャン
delay[nsec]0 0.5 1 1.5 2
num
. of p
erio
d[nu
m/1
.936
nsec
]
0
5
10
15
20
25
30
35Graph
遅延時間[ns] 0 0.5 1.0 1.5 2.0
35 30 25 20 15 10 5 0
周期のカウント数
…0011… -> …0001…の時、周期のカウント数が1上がる。
結果 TDC出力が60ps刻みでシフトする様子が見える。
刻み時間約60psのTDC回路の設計が完了
遅延時間 (基準: 0ns)
1ns
まとめ 9/9
TSMC社製180nmCMOSプロセスのASICを使用し、汎用性に優れたPLL回路を用いたTDCを開発を行った。
180nmプロセスでPLL回路を用いた約60psの刻み時間を持つTDCの開発が可能
TDCの刻み時間 58ps ~ 86ps 発振周期(PLL回路) 1.914ns ~ 2.838ns 基準クロック周期(発振周期x32) 61.25ns ~ 90.82ns
開発したTDC回路の性能(レイアウト前)
今後の予定 - レイアウト後の抽出したパラメータを用いて最終性能評価 - ASIC実機製作(4月~), 完成後動作試験(6,7月~)
Back up 10/9
インバータのパラメータ調整 11/9
in out
Vcon (1V)
vdd(1.8V) 立上り時間& 立ち下がり時間 = インバータの遅延時間
mosのw値、最も遅延が小さくなるように調節した。 1. 電流源のw値(Vcon)とnmosのwn値 2. pmosのwp値
p
n
n(Vcon)
11
パラメータの最適化
WP[um]0 2 4 6 8 10
delay(ps)
5050.5
51
51.5
5252.5
53
53.5
54
54.555
WP[um]0 2 4 6 8 10
delay(ps)
5050.5
51
51.5
5252.5
53
53.5
54
54.555
WP[um]0 2 4 6 8 10
delay(ps)
5050.5
51
51.5
5252.5
53
53.5
54
54.555
W=10um W=20um W=40um
※W=10umは無し
●:WN=2um ●:WN=4um●:WN=6um ●:WN=8um●:WN=10um
W=40um, WN=4umに注目 -> WP=4~10umでdelay ~55ps
11
パラメータの最適化
WP[um]0 2 4 6 8 10
delay(ps)
5050.5
51
51.5
5252.5
53
53.5
54
54.555
WP[um]0 2 4 6 8 10
delay(ps)
5050.5
51
51.5
5252.5
53
53.5
54
54.555
WP[um]0 2 4 6 8 10
delay(ps)
5050.5
51
51.5
5252.5
53
53.5
54
54.555
W=10um W=20um W=40um
※W=10umは無し
●:WN=2um ●:WN=4um●:WN=6um ●:WN=8um●:WN=10um
W=40um, WN=4umに注目 -> WP=4~10umでdelay ~55ps
11
パラメータの最適化
WP[um]0 2 4 6 8 10
delay(ps)
5050.5
51
51.5
5252.5
53
53.5
54
54.555
WP[um]0 2 4 6 8 10
delay(ps)
5050.5
51
51.5
5252.5
53
53.5
54
54.555
WP[um]0 2 4 6 8 10
delay(ps)
5050.5
51
51.5
5252.5
53
53.5
54
54.555
W=10um W=20um W=40um
※W=10umは無し
●:WN=2um ●:WN=4um●:WN=6um ●:WN=8um●:WN=10um
W=40um, WN=4umに注目 -> WP=4~10umでdelay ~55ps
w=10um Wp[um] Wp[um]
delay[ps]
delay[ps] w=40um, wn=4um
wp[um] delay[ps]
決定したパラメータ w=40um, wn=4um, wp=6-10um -> 遅延時間: ~55ps
w=40um
位相周波数検出器(PFD) 12/9
DCK Q
Reset
DCK QReset
UP
DOWN
基準クロック
発振波形
Vdd 立ち上がりの位相差を読み取る回路
Phase difference[nsec]-8 -6 -4 -2 0 2 4 6 8
Tim
e dif
fere
nce(
UP-D
OWN)
[nse
c]
-8
-6
-4
-2
0
2
4
6
8
Graph
位相差に応じた出力を行えることを確認。
0 -2 -4 -6 -8 2 4 6 8 位相差(基準クロック- 発振波形)[nsec]
0 -2 -4 -6 -8
2 4 6 8
時間差(UP-DOWN)[nsec]
基準クロック 発振波形
UP DOWN
Reset
位相差
位相差
Dフリップフロップ遅延 もしくはNAND遅延
基準クロック
発振波形 1ns
230ps
1ns +230ps DOWN
Reset
位相差あり(1ns)の場合
UP
チャージポンプ(CP) 13/9
vdd
UP
DOWN
制御電圧(Vcon* )
位相周波数検出器から出力された位相差を制御電圧(vcon)に変換。
位相差 制御電圧変化
理想的: 位相差と電圧の変化量は線形的な関係 重要な要素: 位相差=0 -> 電圧変化量=0
-150 -100 -50 0 50 100 150-0.006
-0.004
-0.002
0
0.002
0.004
0.006Graph
電圧変化量[V]
位相差[psec]
位相差=0時 : 電圧変化量≒0
チャージインジェクションについて 14/9
位相差のみ
位相差+ 重なる領域(230ps)
チャージインジェクション2 15/9
位相差のみ
位相差+ 重なる領域(230ps)
Vdd
UP
DOWN Vcon*
Time[ns]
Vo
ltag
e[V
]
Vdd
UP
DOWN Vcon*
Vo
ltag
e[V
]
Time[ns]
電荷の流れ
up(1.8ns) down Vcon
up(2.2ns) down Vcon
キャンセルされる。
マージされる。