sunist 运行手册 真空系统 2003 年 3 月 sunist 实验室 清华大学工程物理系

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SUNIST 运行手册

真空系统

2003 年 3 月

SUNIST 实验室

清华大学工程物理系

SUNIST 真空SUNIST 真空

真空系统运行手册

SUNIST 的真空系统

获得

充气

检漏

壁处理

SUNIST 真空SUNIST 真空

真空系统

SUNIST 真空系统框图

SUNIST 真空SUNIST 真空

真空系统

SUNIST 真空系统

真空获得系统( P )由 1200 升 / 秒涡轮分子泵作为真空室抽气的主泵, 200 升 / 秒溅射离子泵做真空室的维持泵。为了增强抽气系统使用的机动性,在主、维持泵系统分装了旁通阀泵。可在不影响真空室真空的情况下,为外接系统提供低、高真空抽气的接口。

主泵 ( TMP )— 涡轮分子泵、前级泵( RP )— 旋片泵、维持泵 — 溅射离子泵( SIP )

主阀 — CF200 插扳阀( VP01 )、维持阀 — CF150 插扳阀( VP05 )、前级阀 — 蝶阀( VP02 )、主泵旁通阀 — CF35 角阀( VP03 )、维持泵旁通阀 — KF40 角阀( VP04 )

真空测量系统( M )包括真空室总压、分压测量、真空室检漏。采用的电离规与电阻规、热偶规量程分为 10-5 — 100 、 10-1 — 105 Pa , 电容规量程 10-3 — 10 Pa 。真空测量规管与充气用的压电阀一起装在主、维持泵抽气管道的四只四通歧管上,歧管通过金属垫圈密封法兰连在抽气管两侧。有的歧管上还装有氟胶圈密封角阀,用以确保无论在更换规管等元件时、还是重新接入真空室,真空状态均不受影响。

真空规管( G )— 主泵侧:电离规( G05 )、电阻规( G04 )、四极质谱探头( RGA )

维持泵侧电离规( G01 )、热偶规( G02 )、电容规( G03 )

阀门( V )— 主泵侧南( VM02 )、北歧管( VM01 )角阀,南( VM04 )、北( VM03 )歧管旁通角阀,维持泵侧歧管阀( VM05 )、( VG01 )

仪器 — 自动压强控制器( APC )、复合真空计、电容规测量单元、四极质谱检漏仪( LD )

SUNIST 真空SUNIST 真空

真空系统

真空充气系统( G )工作气体由超纯氢发生器提供,清洗用的高纯氮、氦用钢瓶,现场膜沉积使用小中压气瓶提供。每条充气线 : 包括气源阀门、缓冲气罐、气瓶抽气歧管阀门、压电充气阀。

阀门 — 系统抽气阀( VG11 ),气源阀( VG8 )、( VG09 )、( VG10 ),缓冲罐抽气阀( V G0

5 )、( VG06 )、( VG07 ),压电阀( VG02 )、( VG03 )、( VG04 )

超纯氢发生器( SPH )钢瓶( B1 )、 ( B2 )、缓冲气罐( T1 )、 ( T2 )、 ( T3 ),缓冲气罐负压表( M1 )、( M2 )、( M3 ),脉冲充气电源

充气控制 — 手动和真空室压力反馈控制( APC 各一路)、手动或脉冲充气电源(两路)

壁处理系统 包括烘烤、辉光放电和硅化膜现场沉积。

烘烤 — 使用居里点 160OC 的正温度系数陶瓷电阻( PTC )作加热元件,用高温导电环氧胶把 PTC 元件粘接在真空室外表面。 PTC 元件另一面粘一铜电极,供电电压 110V 。每半真空室分?路供电,,每路并联?支 PTC 元件。每路 PTC 元件安装一启动按纽,以使每路 PTC 元件的最大电流状态分开出现。用保温被覆盖整个真空室表面。

辉光放电 — 每半真空室安装一电极作辉光放电清洗的阳极,阴极室真空室。最高阳极电压为 1000 V ,每路电流不大于 500 mA 。

膜沉积 — 在氦气辉光放电时,掺入硅烷,实现在真空室壁上沉积硅化薄膜。

SUNIST 真空SUNIST 真空

真空系统

真空系统的运行原则

SUNIST 真空室超高真空状态的维持,使用合适的壁处理手段进一步调控真空室壁的特性,

是进行有意义的等离子体实验的必要条件。达到以上目的必需遵循的运行原则包括:

真空室的压力和状态的高水平维持是运行操作中的最高原则

关键的设备、元件不能受到任何操作动作的伤害

在进行任何操作动作前,必需要考虑好操作动作的程序和每一不程序所可能关联的对系统状

态的影响

在开关与真空室有可能发生关联的阀门时,必需首先检查有关阀门的位置、系统不同部位所

处的压力。在确认不可能发生影响真空室真空状态的后果后,在实施操作动作。

SUNIST 真空SUNIST 真空

系统运行

真空获得

启动主泵(涡轮分子泵 — TMP )

从大气或高真空室残压状态启动 TMP

例行检查 检查冷却水量、真空室主要阀门位置(见附表) 记录真空室压力( G04 > 100 Pa )进入待命状态 开前级泵( RP )电源 开前级阀( VP02 ) 根据需要开启需预抽系统的阀门 启动 开启主泵( TMP )电源、冷却循环水开主阀( VP01 ) 开主阀( VP01 ) 待真空室压 力( G05 )低于 100 Pa 按分子泵电源上的“启动”按纽 待分子泵转速正常后 关预抽系统阀门运行 待真空室压力( G05 )低于 2×10-4 Pa 进入运行状态并按当天任务运行

从真空室维持或低真空状态启动 TMP

例行检查 检查冷却水量、真空室主要阀门位置(见附表) 记录真空室压力( G04 < 100Pa )进入待命状态 开启冷却循环水、前级泵( RP )、分子泵( TMP )电源 开前级阀( VP02 ) 根据需 要开启需预抽系统的阀门 启动 按分子泵电源上的“启动”按纽 待分子泵转速正常后关预抽系统阀门 开主阀( VP01 )运行 待真空室压力( G05 )低于 2×10-4 Pa 进入运行状态并按当天任务运行

停止 TMP 运行 关 VP01 按电源上“停止”钮 关 VP02 关前级泵 RP 电源 TMP转速为零后停电关水

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系统运行

充气

SUNIST 真空室的充气

排空充气系统

关 VP01 停分子泵 连 VP03 、 VG11 开 VP02 、 VP03 、 VG11 、 VG5 ( VG6 、 VG7 )、VG8 ( VG9 、 VG10 ) 10 分钟后启动分子泵 20 分钟后按开的反顺序关上述阀门

辉光放电清洗(氢或氦)

脉冲充气 连接计算机接口与使用的压电阀电源、测量规管( G03 )。固定脉冲启动时间,调脉宽或脉冲电源,达到预定的充气气压

连续充气 根据需要连接压电阀到自动压强控制器( APC )的手动或自动(反馈),调节预置气压或手调驱动电压至需要水平

硅膜沉积

降低主泵抽速、关闭除电容规( G03 )外的测量规管;反馈充氦稳定维持辉光放电,测量压电阀反馈电压;手动调节充入硅烷,从反馈电压降低上找到充硅烷与充氦比例符合要求的位置;注意保持辉光放电的稳定;至要求时间,停充硅烷,停止氦辉光放电;进行预定时间的氢辉光放电

氦放电 按连续充气充入氦

氢放电 按脉冲充气充入氢

真空室氮冲洗 检查阀门位置 检查泵运行状态 关闭电离规 连 VM04 、 VG11 开 VGVP 开高纯氮减压阀开 VP 开始充气

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系统运行

检漏

系统检漏

准备检漏仪

连接 VM7 、 VM4 、 VP3 关 VM6 、 VM7 、 VM4 启动检漏仪至待命状态

按真空获得“启动主泵”排空真空室

在“进入待命状态”时,开 VP02后 开 VP03 、 VM7 按启动主泵程序运行至主泵启动完成

启动检漏程序

按检漏仪上的启动按钮 开 VM06 并注意检漏仪指示的变化 开 VM04 并注意 G05读数变化

检漏

关闭检漏仪

严格按照上一步的逆过程操作 特别注意一定要在 VM6关后才能按检漏仪的停止钮

检漏仪的停止钮状态是在 VM06 前暴露大气!

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