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Titelfoto
© 2015 LIMO Lissotschenko Mikrooptik GmbH
Surface Engineering 2.0 – Neue Materialeigenschaften und
Oberflächenfunktionen mit Laserlicht
Dipl.-Ing. Dirk Hauschild
LIMO Lissotschenko Mikrooptik GmbH, Dortmund
Reinigung – Vorbehandlung – Messtechnik –Oberflächenmodifikation
14.04.2015
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Surface Engineering 2.0
1. Einleitung
2. Selektives Tempern von Funktionsschichten
3. Skalierung der Systemleistung und der resultierendenFlächenrate [m²/s]
4. Integration in In-Line und Off-Line Fertigungslinien
5. Beispiele
6. Zusammenfassung und Ausblick
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1. Einleitung – LIMO
1992Gründung bei Paderbornmit fünf Mitarbeitern
1998Weltmarktführer für refraktive Mikrooptiken
1999Diodenlaser-Systeme
1995Umzug insTechnologiezentrum Dortmund
2004- Strahlformungssysteme- Linienlaser- Applikationszentrum
2001Expansionnach Dortmund-Wickede
2007… 2009Erweiterung des Applikationszentrums um Prozessentwicklungsanlagen
2011Pilot-Anlage zur großflächigenVeredelung vonBeschichtungen;Schneidlösungen für dicke Bleche
2012Grüne Linie zur Produktion flexibler Displays
2010kW Laser-lösungen
Direkte-Dioden-LaserMaterialbearbeitung
ArF Mikrolithographie 65nm…32nm…14nm…
Laser in der Display Fertigung Plasma, TFT, OLED
Vom Punkt zur Fläche, Laserprozesse mit Flächenraten > 10m²/min
Flexible Displays
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1. Einleitung – LIMO
• 215 Mitarbeiter, davon 60 Wissenschaftler & Ingenieure• 311 Patente (Status 2014)• Umsatz 2014: 25 Mio. €• F&E-Investition über 10 % des Umsatzes • 2.000 m² Reinräume • 10.000 m² Entwicklung, Produktion und Applikation• 800 m² betriebsinterne Metallfertigung
• LIMO Kernkompetenz:
„Der kontrollierte Einsatz präzise geformter Laserstrahlung -für höhere Produktivität, neue Werkstoffeigenschaften und kosteneffizientere Fertigungsprozesse.“
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2. Selektives Tempern von Funktionsschichten
• Selektive, Photonen induzierte Modifikation von Materialeigenschaften in dünnen Schichten und Schichtstapeln bis von 0,0001 - 5mm Dicke
• Thermische Prozesse: Legieren, Härten, AnnealingSinternAktivierung von DotierstoffenKristallisation (SPC, LPC)Trocknung
• Athermische Prozesse: Vernetzung von Polymeren
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Surface Engineering 2.0
2. Selektives Tempern von Funktionsschichten
• Flächige Laserbestrahlung durch das linearen Scannen mit einem Linienfokus
• Gleichmäßige Dosierung der Bestrahlungsenergie durch CW Laserquellen (z.B. Hochleistungsdiodenlaser)
2D Scanner + runder Fokus L³ LIMO Line Laser
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2. Selektives Tempern von Funktionsschichten
• Vorteile der L³ LIMO Line Laser Technologie:
• Bis zu 20-fach höhere Energieeffizienz des Prozesses durch axiale statt radiale Thermodiffusion
axial radial
• Flexible Anpassung der Linienparameter an die Materialeigenschaften und die Fertigungstaktzeit
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2. Selektives Tempern von Funktionsschichten
• Linienparameter: Leistung, Intensität, Strahlbreite (w)• Bearbeitungsparameter: Scann Geschwindigkeit (v)
Bestrahlungsdauer f(v, w), Energie, Heiz-/Kühlrate, Temperatur
Unabhängig einstellbare Parameter:
• Energie• Bestrahlungsdauer
ermöglichen flexibel einstellbareProzessabläufe!
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2. Selektives Tempern von Funktionsschichten
2.1 Adressierbarer Prozessraum
• Energiespektrum mit einer Lasertemperquelle: µJ bis 100J• Bestrahlungsdauerspektrum mit gleicher Energie: 0,05ms – 5ms
5ms – 500ms
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2. Selektives Tempern von Funktionsschichten
2.1 Adressierbarer Prozessraum
• Energiespektrum mit einer Lasertemperquelle: µJ bis 100J• Bestrahlungsdauerspektrum mit gleicher Energie: 0,05ms – 5ms
5ms – 500ms
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2. Selektives Tempern von Funktionsschichten
2.1 Adressierbarer Prozessraum
• Schaltgeschwindigkeit (0% - 100% Leistung): 0,1ms• Numerische Einstellung und Kontrolle der Prozessparameter im
kompletten Prozessraum
Schaltpunkt
Bearbeitungspunkt
AAB
B
C
C
D
D
E
E
F
F
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2. Selektives Tempern von Funktionsschichten
2.2 Anwendungsgebiete: Funktionsschichten auf unter schiedlichen Substratmaterialien
GlasGlas
PolymerPolymerSi-WaferSi-Wafer
MaterialienSubstrat
Materialien
PapierPapier
MetallMetall
KeramikKeramik
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3. Skalierung der Systemleistung und der effektiven Flächenrate [m²/s]
• Modularer Laseraufbau auf Basis von erweiterbaren Liniensegmenten z.B. auf Basis von Hochleistungsdiodenlasern
• Beispiel: Annealing von TCO Schichten auf Glas mit 500W pro 10mm Liniensegment und einer Vorschubgeschwindigkeit von 0,1m/s
Linienlänge: 0,01m 0,1m 1m 3mOpt. Leistung: 500W 5kW 50kW 150kWAnschlußleistung: 1,5kW 15kW 150kW 450kWFächenrate: 0,001m²/s 0,01m²/s 0,1m²/s 0,3m²/s
Dünnschicht PV (1,5m²) 0,025m²/s
Floatglas (19m²) 0,64m²/s
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3. Skalierung der Systemleistung und der effektiven Flächenrate [m²/s]
Aktuelle Produktbeispiele:
Activation Line 12, 30 Activation Line 300Prozessentwicklung, R&D Produktion, Pilotfertigung
Prozess: Scan & Repeat
Substratgröße: bis 30 x 30 cm²
Linienlänge: bis 30 mm
Betriebsmodus: 8/5
Prozess: In-Line
Substratbreite: bis 30cm
Verfügbarkeit: >90%
Betriebsmodus: 24/7
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Surface Engineering 2.0
4. Integration in In-Line und Off-Line Fertigungsli nien
• Steuerung und Kontrolle der Laserparameter via SPS/PLC • Ein-, Ausschalten, sowie Variation der Laserparameter innerhalb 0,1ms
möglich• Synchronisation und Taktung in Prozessabläufe durch Anpassung der
Laserleistung und Intensität• Integration in vorhandene Anlagen und Prozessinfrastruktur möglich
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5. Beispiel 1: PV Absorber
Verbesserung der Materialeigenschaften und Qualität
• Annealing Reduktion von intra- und inter-grain Defekten und Stress, Aktivierung von Dotanden, Absorber-Elektroden Übergänge
• Kristallisation Hohe ElektronenmobiliätReduktion der Verluste an Korngrenzenübergängen
• Synthetisierung Anpassung der Absorptionscharakteristik durch Band-Gap, Modifikation von nano-skaligen Materialien
200µm
IPHT Jena: a-Si into c-Si from0,2µm to >1µm layers
HZDR, DresdenSiOx into nc-Si usingspinoidal decomposition
BMBF funded project“Rainbow Energy”
Nakamurea 2000DCCP2
Heinig 2011MRS Spring Meeting
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5. Beispiel 1: PV Absorber
Flüssigphasen Kristallisation von a-Si Schichten auf Glas(Anlage: LIMO Activation Line 30)
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5. Beispiel 1: PV Absorber
Flüssigphasen Kristallisation von a-Si Schichten auf Glas(Anlage: LIMO Activation Line 12)
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5. Beispiel 2: Dünnschicht Elektroden
Verbesserung der optischen und elektrischen Eigenschaften von TCOs, Metallen und anderen leitenden Materialien
• Sintern Kompaktierung von gesputterten oder gedruckten Schichten
• Annealing Reduktion von intra- und inter-grain Defekten
HZDR0,2µm cold sputteredZnO:Al, as deposited
After 1ms LIMO vRTP laser heat treatment
HZDR-LIMO
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5. Beispiel 2: Dünnschicht Elektroden
Verbesserung der optischen und elektrischen Eigenschaften von TCOs, Metallen und anderen leitenden Materialien
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5. Beispiel 3 : Resonante Lichtkopplung in PV Abso rber
Integration von Funktionsschichten mit plasmonischen Eigenschaften
• Entnetzung von Metallschichten und Erzeugung von nano-skalienMetalltropfen auf und in Schichtstapeln
A. Polman, Material for Sustainable Energy, Vol9, 03, 2010
De-wetting and self-organization of metal layer using LIMO laser sources
Confirmation of the simulation results of Heinig, Röntzsch et. al.
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5. Beispiel 4: Schutzschichten auf Stahl
• Legieren und Glätten mit minimaler Thermo-Einflußzone
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5. Beispiel 5: Beschichtungen auf Metall
• Metallurgische Anbindung von Nickelbasislegierungen auf Stahl
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5. Beispiel 6: Beschichtungen auf Metall
• Sintern, Schmelzen und Glätten von TiAl6V4 Oberflächen
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5. Beispiel 7: Beschichtungen auf Metall
• Keramikbeschichtungen auf Stahl
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5. Beispiel 8: Großflächige Beschichtungen auf Meta ll
• Legierung von Pulverbeschichtungen auf großen geschlossenen Flächen
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5. Beispiel 9: Gedruckte Metallische Schichten
• niederohmige metallische Leiterbahnen auf Papier, Folien und Glas
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5. Beispiel 9: Gedruckte Metallische Schichten
• niederohmige metallische Leiterbahnen auf Papier, Folien und Glas
Herstellung der Tinten und der Leiterbahnen durch das Fraunhofer IKTS, Dresden
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6. Zusammenfassung und Ausblick
• Skalierbare Laserquellen mit Linien-Strahlprofilen ermöglichen hohe
Flächenraten beim selektiven, homogenen Tempern von Oberflächen
• Schnelles Schalten zwischen Hochtemperatur- und
Niedertemperaturprozesse ermöglicht eine definierte thermische
Funktionalisierung und Anbindung von Beschichtungen
• Energieeffiziente und präzise thermische Bearbeitung auf Basis z.B.
von modularen Hochleistungs-Diodenlaserquellen
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6. Zusammenfassung und Ausblick
• Kontinuierliche Erweiterung des Anwendungsspektrums durch
Anpassung und Optimierung der Laser-Material Wechselwirkung
• Erweiterung der möglichen Substratmaterialien, z.B. Metalle, Keramik,
Papier, Polymer, Halbleiter, Kristalle
• Neue Temperwerkzeuge erweitern das Funktionsspektrum von
Oberflächen und Beschichtungen in Fertigungsprozessen