КАФЕДРА ИНТЕГРАЛЬНОЙ ЭЛЕКТРОНИКИ И МИКРОСИСТЕМ

8
КАФЕДРА ИНТЕГРАЛЬНОЙ ЭЛЕКТРОНИКИ И МИКРОСИСТЕМ

Upload: quyn-gray

Post on 31-Dec-2015

84 views

Category:

Documents


1 download

DESCRIPTION

КАФЕДРА ИНТЕГРАЛЬНОЙ ЭЛЕКТРОНИКИ И МИКРОСИСТЕМ. КОМПЛЕКТ лабораторныХ практикумОВ. Лабораторный практикум на основе комплекса техно - логического оборудования для формирования актив - ных и пассивных тонкопленочных элементов. - PowerPoint PPT Presentation

TRANSCRIPT

Page 1: КАФЕДРА ИНТЕГРАЛЬНОЙ  ЭЛЕКТРОНИКИ  И МИКРОСИСТЕМ

КАФЕДРАИНТЕГРАЛЬНОЙ ЭЛЕКТРОНИКИ

И МИКРОСИСТЕМ

Page 2: КАФЕДРА ИНТЕГРАЛЬНОЙ  ЭЛЕКТРОНИКИ  И МИКРОСИСТЕМ

КОМПЛЕКТ ЛАБОРАТОРНЫХ ПРАКТИКУМОВ

1. Лабораторный практикум на основе комплекса техно-логического оборудования для формирования актив-ных и пассивных тонкопленочных элементов.

2. Лабораторный практикум по проектированию аналого-вых элементов на основе программно-аппаратного комплекса National Instruments.

3. Лабораторный практикум в области проектирования СБИС с использованием новых платформ проектиро-вания CADENCE.

4. Лабораторный практикум по исследованию электрон-ной компонентной базы с использованием современ-ных контрольно-измерительных комплексов.

Page 3: КАФЕДРА ИНТЕГРАЛЬНОЙ  ЭЛЕКТРОНИКИ  И МИКРОСИСТЕМ

ЛАБОРАТОРНЫЙ ПРАКТИКУМ НА ОСНОВЕ КОМПЛЕКСА ТЕХНОЛОГИЧЕСКОГО ОБОРУДОВАНИЯ ДЛЯ ФОРМИРОВАНИЯ АКТИВНЫХ И ПАССИВНЫХ ТОНКОПЛЕНОЧНЫХ ЭЛЕМЕНТОВ

Лабораторные работы:

1. Исследование процессов магнетронного распыления и термического

осаждения в вакууме тонких металлических пленок.

2. Исследование процесса реактивно-ионного травления тонких

металлических пленок

3. Исследование особенностей плазмо-химического процесса удаления

фоторезиста.

4. Исследование влияния особенностей осаждения металла на

электрофизические параметры диодов Шоттки и тонкопленочных

резисторов.

Page 4: КАФЕДРА ИНТЕГРАЛЬНОЙ  ЭЛЕКТРОНИКИ  И МИКРОСИСТЕМ

ЛАБОРАТОРНЫЙ ПРАКТИКУМ НА ОСНОВЕ КОМПЛЕКСА ТЕХНОЛОГИЧЕСКОГО ОБОРУДОВАНИЯ ДЛЯ ФОРМИРОВАНИЯ АКТИВНЫХ И ПАССИВНЫХ ТОНКОПЛЕНОЧНЫХ ЭЛЕМЕНТОВ

• малогабаритная вакуумная установка настольного типа МВУ ТМ-Магна нане-сения пленок металлов методом маг-нетронного распыления материала мишени;

• малогабаритная вакуумная установка настольного типа МВУ ТМ Плазма-РИТ реактивно-ионного травления;

• малогабаритная вакуумная установка настольного типа МВУ ТМ МАГНА-100 осаждения тонких пленок методом магне-тронного распыления;

• малогабаритная вакуумная установка настольного типа МВУ ТМ - ТИС осаж-дения тонких пленок методом терми-ческого испарения металлов в вакууме.

Page 5: КАФЕДРА ИНТЕГРАЛЬНОЙ  ЭЛЕКТРОНИКИ  И МИКРОСИСТЕМ

ЛАБОРАТОРНЫЙ ПРАКТИКУМ ПО ПРОЕКТИРОВАНИЮ АНАЛОГОВЫХ ЭЛЕМЕНТОВ НА ОСНОВЕ ПРОГРАММНО-АППАРАТНОГО КОМПЛЕКСА NATIONAL INSTRUMENTS

Лабораторные работы:1. Исследование характеристик полупроводниковых диодов.2. Исследование работы однополупериодного выпрямителя.3. Исследование работы мостового выпрямителя.4. Исследование характеристик стабилитрона.5. Исследование характеристик тиристора.6. Исследование управляемых схем на тиристорах.7. Исследование характеристик биполярного транзистора.8. Исследование работы транзисторного каскада с общим эмиттером.9. Исследование характеристик полевого транзистора.10. Исследование работы транзисторного каскада с общим истоком.11. Исследование работы инвертирующего усилителя.12. Исследование работы неинвертирующего усилителя.13. Исследование работы интегратора напряжения.14. Исследование работы дифференциатора напряжения.15. Исследование работы однопорогового компаратора.16. Исследование работы гистерезисного компаратора.

Page 6: КАФЕДРА ИНТЕГРАЛЬНОЙ  ЭЛЕКТРОНИКИ  И МИКРОСИСТЕМ

ЛАБОРАТОРНЫЙ ПРАКТИКУМ ПО ИССЛЕДОВАНИЮ ЭЛЕКТРОННОЙ КОМПОНЕНТНОЙ БАЗЫ С ИСПОЛЬЗОВАНИЕМ СОВРЕМЕННЫХ КОНТРОЛЬНО-ИЗМЕРИТЕЛЬНЫХ КОМПЛЕКСОВ

Лабораторные работы:

1.Ознакомление с работой универсального лабораторного стенда для исследования характеристик и измерения параметров полупроводниковых приборов.

2.Изучение вольт-амперных характеристик полупроводниковых диодов.

3.Исследование переходных процессов в полупроводниковом диоде.

4.Изучение механизмов пробоя в полупроводниковых диодах.

5.Изучение электрофизических параметров диодов Шоттки.

6.Исследование статических характеристик биполярных транзисторов.

7.Исследование динамических параметров биполярных транзисторов.

8.Исследование статических характеристик МДП-транзисторов.

Page 7: КАФЕДРА ИНТЕГРАЛЬНОЙ  ЭЛЕКТРОНИКИ  И МИКРОСИСТЕМ

ЛАБОРАТОРНЫЙ ПРАКТИКУМ В ОБЛАСТИПРОЕКТИРОВАНИЯ СБИС С ИСПОЛЬЗОВАНИЕМ НОВЫХ ПЛАТФОРМ ПРОЕКТИРОВАНИЯ CADENCE.

Лабораторные работы:1.Исследование характеристик МОП транзисторов с использованием платформы Cadence Virtuoso.2.Исследование статических характеристик цифрового элемента. Автоматизация характеризации цифрового элемента .3.Исследование параметрической зависимости динамических харак-теристик цифрового элемента. Параметризация цифрового элемен-та на платформе Virtuoso.4.Исследование частотных характеристик аналогового элемента. Анализ по углам. 5.Основы топологического моделирования с использованием плат-формы Cadence Virtuoso.6.Автоматизированное топологическое проектирование логического элемента на библиотечных транзисторах.7.Физическая верификация и расчет цифрового элемента с учетом паразитных эффектов.8.Исследование возможностей языка поведенческого моделирования Verilog-A для проектирования аналоговых устройств.

Page 8: КАФЕДРА ИНТЕГРАЛЬНОЙ  ЭЛЕКТРОНИКИ  И МИКРОСИСТЕМ

ЛАБОРАТОРНЫЙ ПРАКТИКУМ ЭТАПЫ ТЗI - 15.03 II - 15.04 III – 15.05

на основе комплекса технологического оборудования для формирования активных и пассивных тонкопленочных элементов

+ + +

по проектированию аналоговых элементов на основе программно-аппаратного комплекса National Instruments

+ + +

по исследованию электронной компонентной базы с использованием современных контрольно-измерительных комплексов

+ + +

в области проектирования СБИС с использованием новых платформ проектирования CADENCE

+