离子注入机简介

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★ 离子注入机的种类

中束流μA

350D

NV6200A

大束流mA

NV10-80

NV10-160

NV10-160SD

NV10-180

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★6200 、 NV10160 、 10180 、 10160SD简介离子注入机按照真空系统分为三个部分SOURCE

BEAM LINE

END STATION

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SOURCE BEAM LINEEND

STATION

6200

FILAMENT

ARC

EXTRACTION

ACCEL / DECEL

SUPPRESSION

ANALYZER

SUPPRESSION

ACCELERATION

Q-LENS

X 、 Y SCAN

FARADAY SYSTEM

END STATION CONTROL

NV10160

NV10180

NV10160SD

FILAMENT

ARC

VAPORIZER

SOURCE MAGNET

SUPPRESSION

EXTRACTION (HV)

ANALYZER

ACCELERATION

FLAG FARADAY

DISK FARADAY

各部分包括的控制器

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★ 离子注入的原理

离子源产生的离子在吸极电压的作用下形成束流，以一定的速度进入分析器磁场后受到洛仑磁力发生偏转，选出我们所需的离子，通过加速高压的作用获得一定的能量，离子通过透镜的聚焦后，以一定的扫描方式打入硅片。

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★ 离子源的工作原理

当离子源的灯丝通过足够大的直流电流时，灯丝受热后发射的热电子在 ARC 电压、源磁场的共同作用下做螺旋状运动与工艺气体碰撞后，工艺气体发生电离产生离子。

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★ 质量分析器

洛仑磁力： F=qvB R=mv/qB

带电粒子进入磁场受到力的作用后发生偏转。

11B+ 、 31P+ 、 40Ar+ 、 75As+ 、 121Sb

+

350D ：先分析后加速。

NV1080 ：先加速后分析。

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★ Q-LENS 静电四极透镜

静电四极透镜：对离子进行聚焦作用。

加速后的离子在 Q-LENS 静电四极透镜的作用下被聚焦成较小的束斑。

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★ FARADAY SYSTEM

FARADAY 的作用是测量束流，通过 DOSE 控制器精确地计量注入到硅片上的剂量。

BEAM SETUP ：束流打在 FLAG FARADAY

IMPLANT ：束流打在 END STATION （ 350D ）

束流打在 DISK （ NV1080 ）

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谢谢！

2006.8.2