AQUATek LVAAutomuestreador viales líquidos

AUTOMÁTICO • OPERATIVO • SEGURO

AQUATek LVA es un sistema de auto muestreo para los sistemas de

purga y trampa (PTC) que automatiza los pasos de preparación de la

muestra en el caso de matrices líquidas. El sistema prepara las

muestras de aguas potables y aguas residuales de un modo

automático.

El software directo y simplificado dispone de autodiagnóstico

integrado. Constituyendo uno de los sistemas más simples y

robustos del mercado. El sistema puede complementarse con un

dispositivo para la medida de pH en línea que permite comprobar el

preservado de las muestras sin necesidad de abrir el vial.

¿Cómo trabaja el sistema?

Aplicaciones y Sectores

Métodos

AQUATek LVA utiliza un sistema basado en loop fijo de muestra que se rellena en el paso de presurizado. Los patrones internos/surrogados se añaden a la muestra y se transfieren al concentrador para su determinación. El AQUATek LVA inicia entonces un paso de limpieza antes del procesado de la siguiente muestra.

AQUATek LVA puede conectarse y ser controlado por los modelos PTC LUMIN y STRATUM logrando un completo automatizado en la preparación de muestras líquidas, incluye la medida de la cantidad de muestra, adición de patrones y surrogados, transferencia de la muestra y limpieza entre muestras.

AQUATek LVA dispone de todo lo necesario para cumplir con los métodos propuestos USEPA y el análisis y determinación de compuestos orgánicos volátiles. El sistema trabaja en un sistema completamente cerrado para el manejo de la muestra y refrigerado de la misma. Este sistema asegura la integridad de la muestra durante el proceso de preparación, minimizando pérdidas de volátiles y reduciendo además el tiempo de trabajo del usuario.

El muestreo y análisis de los VOC dispone de múltiples aplicaciones en los siguientes sectores:

Medioambiente Alimentos y bebidas Farmacéutica Fragancias y sabores Petroquímica Plásticos y polímeros.

USEPA 5030 junto a 502.1, 502.2, 524.2, 524.3, 524.4, 503.1, 601, 602, 603, 604, 8010, 8015, 8020, 8021, 8030, 8240, 8260.

Métodos ASTM estandarizados

Métodos Massachusetts, VPH y GRO

Circuito en bandeja para refrigeración de viales

Características adicionales

Loop de muestra

Bandeja muestra 84 posiciones

AQUATek LVA está equipado con un loop de muestra de volumen fijo de material PEEK™ que puede variar entre 5,10, 20 y 25 mls. Este loop se llena de muestra procedente del vial mediante un paso de presurizado.El loop se sitúa conectado a una válvula selenoide de tres puertos. Esto permite no solo la transferencia de la muestra al concentrador para su preparación y análisis, sino que permite la limpieza del loop entre muestras con un lavado de agua caliente y el consiguiente barrido con gas inerte.

La bandeja de muestra acomoda 84 posiciones, está completamente aislada y asegura que las muestras una vez refrigeradas permanezcan frías.

El refrigerado de los viales de muestra mediante un baño externo permite mantener las muestras refrigeradas. Esto precisa de un baño recirculador refrigerado externo.

Dispositivo de válvulas - Este dispositivo de precisión reduce las conexiones en un 60 % y mejora en su conjunto la funcionalidad operativa del sistema.

Lavado con agua caliente - El circuito completo de muestra, puede lavarse utilizando la técnica de limpieza con agua destilada a elevada temperatura para lo que dispone de dos circuitos internos para calentar el agua blanco a 90ºC para lavado.

Patrones internos

Sonda pH

Automatismo XYZ

Configuraciones superpuestas

Código de barras - AQUATek LVA puede conectarse a un lector de código de barras para la identificación automática del número de vial y añadirlo al Teklink Schedule.

Recipiente de agua blanco - Este está incluido en el sistema y proporciona agua de limpieza y auto blanco lo que libera espacio en la bandeja de muestras para de ese modo disponer de mayor productividad.

Esta sonda en línea permite registrar la medida de pH de la muestra en el schedule.

El nuevo brazo del sistema es rápido y silencioso y recoge años de experiencia y mejora, para eliminar los problemas asociados a esta plataforma.

Esta configuración reduce el espacio necesario del instrumento en bancada de laboratorio.

Los patrones internos/surrogados se almacenan en dos recipientes de vidrio, ambos de 15 mls para evitar la radiación UV. Los recipientes están sellados con una tapa de PEEK™ para evitar la absorción de contaminación de las disoluciones patrón.Cada recipiente patrón puede suministrar volúmenes de 1,2, 5.10 y 20 microlitros a cada muestra. Cada válvula de inyección puede utilizarse de forma independiente o combinada.

Lumin TekLink™ AQUATek LVA se controla mediante el software Lumin TekLink™.Este es la última generación de la familia TekLink™, totalmente compatible con pantalla táctil, presenta una interface más clara, sencilla e intuitiva. Es capaz de ejecutar ensayos y diagnósticos como fugas y verificación del sistema completo. Todos los parámetros del instrumento y guías de trabajo pueden programarse. Adicionalmente el Lumin Teklink™ dispone de métodos pre-programados para el inicio de trabajo sin apenas modificaciones.

Pantalla Principal - Tiene un diseño sencillo que presenta cuatro opciones principales: Métodos, Programaciones, Herramientas y Ayuda.La pantalla de estado del instrumento es flotante y puede fijarse para permanecer abierta cuando el resto del software LUMIN Teklink™ este minimizado, de este modo puede verse lo que necesites mientras estás trabajando con otros software como el GC-MS.

Pantalla de estado del instrumento - La pantalla de estado del instrumento proporciona una importante información como el modo de operación y los parámetros instrumentales.Durante la verificación de fugas muestra la zona del sistema que se está verificando y el tiempo que resta para acabar el chequeo.

Pantalla Programación - La construcción de un “schedule” es ahora más fácil aún contando las ventajas del Excel como el rellenado secuencial, los “schedule” pueden ser editados en todo momento incluso durante un análisis. Esto permite añadir muestras prioritarias sin parar el análisis.La pantalla también contiene campos muy útiles como la identificación de muestra, posición del vial y la adición de patrones.Por último la pantalla del software captura información esencial como las presiones de purga y limpieza o el valor de pH (si se dispone de la opción) mostrando el estado general del sistema.

Pantalla desarrollo de método - El software Lumin Teklink™ dispone de métodos de trabajo pre-instalados para la mayoría de las aplicaciones normadas, retomando una de ellas si coincide con su aplicación e iniciar el trabajo sin apenas cambios. También se puede modificar y constituir un método propio para el exacto procesado de sus muestras. El editor de métodos está dividido en varias tablas mostrando parámetros que afectan a las zonas específicas del análisis de muestra; purga, desorción, limpieza.Tras crear los métodos puede definirse el “Schedule” con las muestras especificadas, la secuencia operativa y el orden de análisis.

Especificaciones AQUATek LVAAutomatismo

Tipo de muestras

Viales

Automatismo

General Specifications

Dimensiones (Alto x Anch. x Prof.) 64.2 cm x 54.8 cm x 66.8 cm

Peso 31.75 kg

Alimentación 100-240VAC +/- 10%, 50/60 Hz, 2.5A, 300W

Especificaciones del entorno

Gestión de gas

Paso de muestra 1/16” and 1/8” O.D. PEEK tubing; 1/8” PTFE Tubing

Suministro de gas

Gestión de líquidos

Precisión de la muestra

Circuito de la muestra

Suministro de agua

Limpieza

Blancos

Refrigeración del vial

Inyección de patrón

Sistema de inyección de patrones

Capacidad

Precisión y exactitud

Recipientes de patrones

Calefactor

Calefactor de agua caliente

Servicio

Chequeo electrónico de fugas

Chequeo completo del sistema

Especificaciones de sonda pHRango y exactitud pH

Alimentación 5.0 VDC

Temperatura operativa o o10 C a 40C

Dimensiones Largo: 4.0” (102 mm); Diámetro: 0.63” (16 mm)

Muestras líquidas entre las que se incluyen aguas potables residuales. Muestras con hasta sedimentos de15 mm pueden medirse con toma de muestra superior del vial 40 mls.

84-posiciones con viales de 40 mL VOA, con septum capa PTFE-silicona según especificaciones USEPA

XYZ robotizado con sistema de punzado de vial de muestra

Temperatura operativa: 10° a 30°C; Temperatura almacenamiento: -20° a 60°C; Humedad relativa: 10% a 90% ; el frontal y la cubierta del automuetreador son resistentes a la corrosión pH en el rango 1 a 10

Helio o Nitrógeno ultrapuro (99.999%); Presión entrada: 60-100 psi, (100 psi max)

< 1% RSD (n=7 @ 5 mL volumen suministrado medido en peso)

Vidrio, PEEK, EPDM y Ultem® dispositivo de válvula selenoide. 1/16” (0.16 cm) OD PEEK transferencia de líquido

Requiere el uso de recipiente de agua presurizado (incluido)

El paso de muestra líquida puede limpiarse mediante el enjuague de agua de alta temperatura; definido por el usuario el volumen utilizado y número de enjuagues para la aguja y el material de vidrio

Automático puede ser extraído del depósito de agua y añadir estándar lo que permite ahorrar todas las posiciones para el muestreo de muestras

Se enfría la muestra la bandeja a 4°C según la definición más metodologías de USEPA (requiere un baño de enfriamiento con recirculación externa)

2 recipientes de inyección de patrones mediante 2 válvulas de dosificado montadas en el dispositivo de válvulas

Hasta 20 μL en incrementos de 1, 2, 5, 10 y 20 μL con 1 µL para inyección de 1 µL

< 10 % RSD medido por GC/MS para Fluorobenceno y bromofluoro benceno (n=7), basado en inyección de 5 µL

Dos recipientes de patrones estándar de 15 mls, protegidos para la luz ultravioleta para la estabilidad de patrón; los recipientes están sellados a estanqueidad para evitar la contaminación externa

Control variable de calentamiento 35°C a 90°C

Capacidad para comprobar todo el circuito de muestra mediante una verificación automática de fugas

El sistema dispone de un modo que permite la verificación completa del sistema incluyendo; válvulas, calefactor, sistemas de manejo de viales, dosificado de líquidos, entradas y salidas

2 a 12; ± 10% con dos puntos de rango de calibrado

Windows® es una marca registrada de Microsoft, PEEK ™ es una marca registrada de Victrex PLC.Cubierto por una o más de las siguientes patentes: 7,651,866; 6.280.688 y otras patentes pendientes.

www rafer es. .Barcelona

93 645 50 28barcelona@rafer.es›

(

Bilbao94 499 85 80bilbao@rafer.es›

(

Madrid91 365 15 70madrid@rafer.es›

( 954 369 334sevilla@rafer.es

Sevilla

›(

Valencia96 340 48 00levante@rafer.es›

(

Zaragoza976 23 74 00rafer@rafer.es›

(

Lisboa21 154 19 98lisboa@rafer.es›

(

La Coruña981 93 89 26galicia@rafer.es›

(

Málaga639 359 792malaga@rafer.es›

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