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パルス軟X線光源とその応用 Development and Application of Pulsed Soft X-Ray Source 高杉 恵一 量子科学フロンティア 2015年11月5日

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  • パルス軟X線光源とその応用

    Development and Application of Pulsed Soft X-Ray Source

    高杉 恵一

    量子科学フロンティア 2015年11月5日

  • 光のエネルギーと波長

    hchE

    ]eV[

    1024.1]m[

    6

    E

  • 話 題

    • 自己収縮するプラズマ

    • EUVリソグラフィ

    • 軟X線顕微鏡

    効率のよいエネルギー変換システム

    次世代半導体リソグラフィ光源

    生体組織を生きた状態で観察

  • 1.自己収縮するプラズマ

  • プラズマ状態

  • 身の回りのプラズマたち

    落雷 ネオン管

  • 宇宙のプラズマたち

    太陽 Hale-Bopp彗星

    オーロラ

  • プラズマに共通した性質

    • 温度が高い

    • 電気伝導度がよい

    • 流動性が高い

    ⇒ しゃへい(空間的・時間的)

    ⇒ 磁力線の凍りつき

    ⇒ ピンチ効果

  • 自己収縮するプラズマたち

    落雷 スパーク

    かに星雲

  • 電流のつくる磁場

    J

    B

  • 100 kAの電流のつくる磁場

    r (mm) B (T) B2/2m0 (Pa)

    100

    10

    1

    0.1

    0.2

    2

    20

    200

    1.6×104

    1.6×106

    1.6×108

    1.6×1010

    1 atm = 105 Pa

  • Zピンチへのエネルギー入力

    r

    I

    dt

    rdm

    m

    2

    2

    0

    2

    2

    a

    RI

    dt

    drmln

    22

    2

    0

    2

    m

    プラズマの半径方向の運動方程式は

    プラズマに入る運動エネルギーは

    電流2乗のスケーリングが得られる

  • 入力エネルギー

    電流 エネルギー

    200 kA 180 J

    2 MA 18 kJ

    20 MA 1.8 MJ

    [mm] 10 [mm], 1 [mm], 10 aR

  • SHOTGUN Zピンチ装置

  • 電流波形と軟X線、EUV光

  • Zピンチプラズマの収縮過程

  • ホットスポットの発生

  • Johansson型結晶分光器を用いた軟X線分光測定

  • 軟X線スペクトル

  • 軟X線の発生機構

    • He様共鳴線 (1s2p – 1s2)

    基底状態からの衝突励起

    • Li様サテライト線 (1s2p2 – 1s22p)

    He様イオンからの二電子性再結合

  • EUV領域の分光測定

  • ArイオンのEUVスペクトル

  • SnイオンのEUVスペクトル

  • Xe Zピンチ

    Xe 100% He:Xe=500:1

  • Zピンチプラズマからの軟X線放射

    • ホットスポット

    ⇒高温のプラズマから放射されるHe様イオン線

    • バルクプラズマからの放射

    ⇒持続時間の長いEUV領域のスペクトル線

    • 雲状構造

    ⇒周囲の金属蒸気から放射されるKα線

  • 軟X線放射の空間構造

  • 軟X線の応用

    • 次世代半導体リソグラフィ

    ⇒波長13 nmにおける単色光源

    • X線顕微鏡

    ⇒Water Window(2.3-4.4 nm)における光源

    • 新物質の構造解析

    ⇒波長(1-10Å)における単色光源

  • 2.EUVリソグラフィ

  • 半導体ロードマップ

    EUV

    13.5 nm

    ArF

    193 nm

    KrF

    248 nm

    50 65 70 80 90 107 MPU(nm)

    45 65 70 80 90 100 DRAM(nm)

    2011 2010 2009 2008 2007 2006 2005 2004 2003

    液浸露光技術

    2012 2013

    ITRS2003(International Technology Roadmap for Semiconductors)

    国際半導体技術ロードマップ

    35 32

    35 32

  • プロセッサーと半導体プロセス

  • EUV露光システム

  • EUVリソグラフィの光学系

  • LPP方式とDPP方式の比較

  • 3.軟X線顕微鏡

  • 軟X線の吸収

  • Water Window

    • エネルギー280~540 eV(波長2.3~4.4 nm)

    の光はOよりもCで強く吸収を受ける。

    水中で有機物が際立って観測されるため、

    水の窓(Water Window)とよばれる。

  • 軟X線を用いた組織の観察

  • 課 題

    • H、CおよびOのエネルギー500 eVの光に対

    する吸収断面積は表のようになっている。水

    H2Oおよびポリエチレン(CH2)nの半価層(透

    過率が半分になる厚み)を求めなさい。ただ

    し、質量密度はそれぞれ1.00および0.90

    [g/cm3]である。

    元素 断面積 [cm2]

    H 1.14×10-22

    C 2.68×10-19

    O 3.82×10-20

  • 蛇足

    xne

    nx

    2ln

    X線の透過率は標的の数密度n、断面積、距離をxとしたとき

    これが1/2になるxが半価層である

  • 蛇足2

    OHOH 22

    Aun

    水分子H2Oの断面積はHおよびOの断面積をHおよびOとしたとき

    数密度nは質量密度、分子量A、質量単位uとしたとき

  • 最後に

    • この講義の資料はホームページ上に置いておきます こちらからアクセスしてください

    http://sg2.phys.cst.nihon-u.ac.jp/

    「プラズマ科学」で検索できます