Prosiding Seminar Tduw/ogi dan Kesdamatan PLTNserta Fasi/itas Nuklir

Serpong, 9-10 Februari 1993PRSG, PPTKR - BATAN

PENGARUH REAGEN PENGETSA DAN WAKTU TERHADAPGAMBAR STRUKTUR MIKRO PADA PADUAN

LOGAM AIMg2 DAN AIMgSi

Oleh

Eric Johncri, SigitPusat Elemen Bakar Nuklir - Badan Tenaga Atom Nasional

ABSTRAKSalah satu kegiatan penting dari sejumlah karakterisasi bahan adalah uji struktur

mikroskopik yang dilakukan setelah pengerjaan proses etsa ("etching"). Keberhasilan penampilanfotografi pada medan mikroskop dengan kontras yang tajam diantara butir kristal serta batas butirtergantung dari ketepatan reagen serta waktu dan proses pengetsaan. Pada penelitian ini telah

dipelajari pengaruh reagen serta parameter proses pengetsaan terhadap paduan logam AIMg2 danAIMgSi yaI}g biasa dipakaisebagai kelongsong elemen bakar Reaktor Serba Guna Serpong melaluimetoda "swab etching" (usap) dan penetesan. Hasil percobaan menunjukkan bahwa komposisilarutan pengetsa yang terdiri dari campuran asam khlorida, asam fluorida dan air masing-masingsebanyak20 ml, waktu etsa 35 detik, baik untuk metoda usap maupun metoda penetesan memberikanhasil foto struktur mikro relatif baik.

ABSTRACT

Microscopic structure examination after etching process is one of the important activityin material caracterisation. The good photographic appereance on microscope field is showedby sharp contrast between grains and grain boundaries. This result depend on correct reagent, etchingtime and etching process. In this paper, the influence of reagent and etching process parametersfor AIMg2 and AIMgSi which are used for cladding material of fuel element for Multi Purpose Reactorat Serpong by swab etching and drop method were investigated. The experiments showed thatthe composition of etch ant which consist of chloride acide, fluoride acide and waterof 20 ml volumerespectively, etching time of 35 seconds for both methods gave a good relatively results.

I.PENDAHULUAN

Paduan logam aluminium mempunyai perananyangpenting dalam reaktorriset. Dengan keunggulan beberapakarakter yang dipunyai seperti tampang serapan netronrendah, sifat mekanik, fisik dan kimia yang memadaiserta penanganan yang mudah, maka aluminium telahdipili,h sebagai bahan pembungkus (kelongsong) elemenbakar (I).

Berbagai jenis paduan logam AI yang dapat

digunakan misalnya AIMgSi dan AIMg2• Jenis yangterakhir ini dipakai pad a Reaktor Serba GunaG.A.Siwabessy (RSG-GAS) BAT AN Serpong. Menurutperhitungan yang dilakukan, cukup banyak gagalanAIM~ yang diperoleh dari lnstalasi Produksi ElemenBakar Reaktor Riset, sehingga perlu diusahakan suatu

penelitian untuk memanfaatkan kembali gagalan AIMg2,seperti telah dilakukan PAND IT (2).

Setelah gaga Ian AIMg2 dapat diolah kembali,maka hasil tersebut perlu diuji kembali tentang sifatmekanik, fisik, kimia, metalografi dan struktur mikros­kopiknya, agar dipcroleh karakteristik yang memenuhi

296

persyaratan.

Dalam penel itian ini khusus akan dibahas mengenaiuji struktur mikroskopik yang dilakukan sesudah

pengerjaan etsa ("etching") dari paduan logam AIMg2dan AIMgSi. Hasil penampilan foto yang baik yaituapabila diperoleh gambar dengan kontras yang tajam diantara butir kristal dan batas butir. Faktor-faktor yangberpengaruh adalah ketepatan reagen, waktu sertametoda proses pengetsaan yaitu "Swab Etching" danPenetesan. Penelitian ini perlu dilakukan mengingatbahwa dalam praktek pelaksanaan etsa sering terjadikegagalan-kegagalan sehingga tidak didapatkan hasilseperti yang diinginkan karena berbagai kondisi yangtidak tepat. Oleh karena itu penelitian ini bertujuanmencari reagen yang tepat untuk proses etsa paduanlogam aluminium AIMg2 dan AIMgSi.

Proses Eisa ("Etchin!!")Proses etsa dengan menggunakan bahan kimia

merupakan salah satu teknik untukn1endapatkan strukturmikro yang kontras antara butir dan batas butir.

--

1.20f?OE.f12

~

. '":"',:, -: ~.,." , ., ."

- . :.2090'1=--12

6,9168E--13

8,1370E--13

6,6420E--13

[2]Elemen Bakar... -.

WElemen Kendali

N~Elemen Beryllium

\C> 8,9277E--13Ut

~

SystemRabbitCepat

[@

Syster:nRabbitNormal

~

Posisl IrradiaslPusat

GJPosislI rrad iasl

Blok Reflektor Beryllium

7,1285E--13

1,4704E--14

7,6298£-13

7,8214E-13

7,9221E--13

7,2076£-13

5,7607E-13

9,2910£--13

IP1 1.9422E--14

IP2 2.0689E--14

IP3 1,8606E--14

IP4 1,8866E-14

CIP1 8,,/90r£-I-13

ICIP4 8.5571E-13

1,2CrJOE-12

Gambar .1... Pemetaan Flur.:5 Neutron Termal (n/cm2.dtk)Teras TWC bellsj 2 x 4 x 15 gram FP M dan72 gram Ir-192 untuk daya 30 MW

Prosiding Seminar Telaw/ogi dan Keselamalan PLTNserla Fasi/ilas Nuk/ir

Serpong, 9-10 Februari 1993PRSG, PPTKR - BAIAN

Reagen C: Campuran HCI (d = 1,19) = 20 mlHF (40%) = 20 mlAir (aquades) = 20 ml

2. Mikroskop optik3. Alat poles4. Pengukur waktu ("stop watch")5. Amplas6. Pasta alumina

2. Rca!!cn DCn!!ctsa.Reagen yang dipakai dalam percobaan ini ada 3

macam yaitu :Reagen A : Campuran HCI (d = 1,19) = 75 ml

HN03 ( d = 1,40 ) = 25 mlHF (40%) = 5 ml

Reagen B : Campuran HCI (d = 1,19) = 20 ml

HN03 ( d = 1,40 ) = 20 mlHF (40%) = 5 ml

C. Cara Kcria1. PcnvlaDan samDcl.- Pemotongan: Logam dipotong-potong menjadi ukuran

(1 x2) cm dengan tujuan untukmempermudahpengerjaan "mount­ing"lalu dibersihkan dari bekas perno-

tongan. \- Pencucian : Dimaksudkan untuk membersihkan le­

makdan kotoran lain yang melekatpadapermukaan logam lalu dikeringkan.

- "Mounting" : Sam pel dimasukkan kedalam resin yangditempatkan dalam suatu cetakan untukmempermudah pengerjaandanmenjaminkerataan dan posisi permukaan sam pel.

- "Grinding" : Menghaluskan dan meratakan permuka­an sampel hingga menjadi halusmenggtinakan amplas sampai tingkat("grade") 1200. Setiap penggantiantingkat amplas, sampel diputar 90°searah jarum jam.

- Pemolesan : Sampel dipoles dengan pasta aluminaat au pasta "diamond" dengan ukuran 15mikron sampai 5 mikron. Hal inidimak­sudkan agar diperoleh permukaan yangbetul-betul bersih, licin, bening tanpagoresan apabila dilihat dibawahmikroskop.

- Pembersihan dan Pengeringan :Sampel dibersihkan, dicuci dengan airlalu alkohol agar butir-butir air padapori-pori dapat keluar dari permukaan.Kemudian dilakukan pengeringandengan udara panas supaya sam pelbenar-benar kering dari bahan pembersih.Sampel siap dietsa.

=20mlAir (akuades)

II. METODAffATA KERJA

Disini reagen pengetsa bereaksi dengan permukaanlogam. perusakan lapisan permukaan dari logam secarakimia hingga lapisan batas butir terbuka dan dapatdiamati strukturmikro yang membentuk logam tersebut.Apabila proses etsa dengan cara ini tidak memberikanhasil yang memuaskan, misalnya reagen pengetsameninggalkan residu yang sulit dibersihkan, maka adaaltematif lain yaitu proses etsa secara fisik yangmenggunakan fenomena fisika untuk memperolehstrukturmikro yang kontras. Sebagai contoh adalah etsatermal pada suhu tinggi dim ana atom-atom meninggalkanpermukaan logam yang dietsa.

Jenis proses etsa lain adalah etsa secara elektroki­mia yang di dalamnya terjadi peristiwa reduksi danoksidasi. Logam yang bersinggungan dengan larutanpengetsa mempunyai kecenderungan terionisasi denganmelepaskan elektron sehingga dapatdiukurpotensialnya.Unsur-unsur logain mempunyai daya gabung listrikyangberbeda-beda dan dapat bereaksi dengan asam sambil

mengeluarkan~, misalnya AI, Mg,Mn,Zn,Cr,Ni,Fe.Unsur-unsur logam lain seperti Sn, Cu, Ag, Pt memerlukanzat pengoksidasi.

Dengan adanya perbedaan potensial dari unsurlogam terse but, maka laju pelarutan pada permukaanjuga berlainan sehingga dapat membentuk strukturmikro yang kontras.

Ada dua metoda pada proses etsa dengan bahankimia yaitu metoda "Swab Etching" dan metodaPenetesan yang dipelajari dalam penelitian ini.

Perbedaan kedua cara tersebut yaitu: pada metoda"swab" reagen pengetsa dioleskan pada permukaan,sedangkan pada metoda penetesan, reagen pengetsaditeteskan pada permukaan logam sambil benda kerjanyadigoyang-goyang. '

Setelah proses etsa selesai dilakukan, maka dilanjut­kan dengan pengamatan struktur mikro untukmengetahui perubahan bentuk butir, distribusi butirsertaperubahan lain yang mungkin terjadi. Pengamatanterse but dilakukan dengan mikroskop melaluipembesaran lensa optik dan polarisasi. Hasil akhirberupa foto struktur mikro yang dapat dievaluasi.

Proscs ctsa dcn!!an bahan klmla

A. Bahan

1. Gagalan AlMgSi dan AlMg2 diperoleh dari IPEBRR-PEBN

2. Asam khlorida3. Asam nitrat4. Asam fluorida5. Alkohol6. Resin

B. Alat

1. Alat potong listrik

297

Prosiding Seminar Teknologi dan Keselamalan PLTNsala FasiJjlas Nuklir

3. Waktu DCn!!Crjaan ctsa.Waktu pengetsaan untukkedua metoda ditcntukan

berdasarkan informasi dari pustaka 3 yang untuk se­lanjutnya divariasi sebagai berikut :

a. Untuk reagen A: 35, 55 dan 80 detik.b. Untuk reagen B: 70, 110 dan 160 detik.c. Untuk reagen C: 20, 35 dan 46 detik.

4. Proses etsa.

a. Metoda "Swab Etching".

- Reagen A dioleskan pada sampel AlMg2 danAlMgSi selama waktu35, 55 dan 80 detik, kemudiandicucildibersihkan dengan air, alkohol dandikeringkan.

- Sampel yang sudah kering diamati dibawah mi­kroskop dengan pembesaran tertentU: kemudiandibuat foto struktur mikronya untuk dianalisis

- Percobaan diulangi untuk reagen B dan reagen Cdengan waktu etsa masing-masing seperti padano. 3b dan 3c.

b. Metoda Pemolesan.- Reagen A diteteskan pada pcrmukaan sampel

AlM~ dan AlMgSi, kemudian digerakkan(digoyang-goyang) selama 35, 55 dan 80 detik,kemudian dicucildibersihkan dengan air, alkohol dan dikeringkan.

- Proses dan percobaan selanjutnya sarna denganyang tertera pada metoda "Swab Etching"

.5. Fotoe:rafiSetelah sampel selesai dietsa, sampel dilihatdengan

mikroskop optikdandibuat fotonya untukdianalisisdandievaluasi.

(a)

Sa pong, 9-10 Februari 1993

PRSG, PPTKR - BATAN

III. HASIL DAN PEMBAHASAN

Hasil-hasil percobaan ditampilkan dalam bentukgambar fotografi mikroskopik. Untuk membandingkandengan logam yang telah dietsa, maka terlebih dulu

dilakukan pembuatan foto permukaan dari AIMg2 danAlMgSi seperti terlihat pada Gambar 1.

Kedua foto ini belum memberikan informasi cukupmengenai jenis fasa, orientasi butir serta batas butir.Yang tampak hanyalah cacat permukaan berupa garisdalam berbagai arah dan distribusi titik-titikhitam denganukuran berbeda.

Observasi lain terhadap permukaan ditunjukkandengan adanya kekasaran atau ketidakberaturan yangtimbul sebagai akibatpengerjaan selama fabrikasi sepertipencetakan, ekstrusi, pengerjaan akhir atau pengerjaandingin. Hal ini dapat disebabkan pula oleh perbedaankomposisi pada permukaan.

Dalam kaitan dengan fabrikasi elemenjenis pelat,

AlMg2 mengalami pengerjaan canai ding in sedangkanAIMgSi hanya pengerjaan mekanik di luar canai ding intidak mengakibatkan deformasi yang berarti. Pengerj aanding in pada AlMg2 menyebabkan densitas dislokasi lebihbesar, demikian pula peluang terjadinya kekosong-an("vacancy") (4);

Penggabungan "vacancy" pada lokasi tertentu me­nyebabkan terbentuknya lubang yang relatifbcsarsepertitampak pada permukaan AIMg2 yang mempunyai derajatdeformasi lebih tinggi daripada AIMgSi. Diduga hal iniyang menyebabkan perbedaan kontras antar kedua fotodi atas.

Gambar-gambar berikut ini menunjukkan keadaan

permukaan logam paduan AlMg2 dan AlMgSi setelahdietsa dengan berbagai reagen pengetsa, metoda danwaktu etsa. Variabel-variabel ini telah dijelaskan padabab II(metodaltata kerja). Karena temp at terbatas makatidak semua gambar disajikan, mclainkan dipilih yangdapat memberikan informasi perbedaan pengaruh reagendan metoda etsa.

(b)

Gambar 1. Foto Struktur mikro AlMg2 (a) danAlMgSi (b) sebelum dietsa

298

Prosiding Seminar Te/aw/ogi dan Ke:se:lamatan PLTNserta Fasi/itas Nuk/ir

A. Pcn!!aruh waktu etsaBaik dengan menggunakan metoda "swab etching"

maupun penetesan untuk kedua jenis logam paduan

AIMg2 dan AIMgSi, waktu etsa yang relatifmemberikanhasil yang baik adalah sebagai berikut :

- Reagen A: 80 detik.- Reagen B : 160 detik.- Reagen C: 35 detik.

Sebagai contoh dapat dilihat pada gambar 2, yaitu

struktur mikro logam paduan AIMg2 yang dietsa secara"Swab Etching" selama 35 detik dan 80 detik, denganreagen A. Tampak bahwa daerah batas butir belumterlihat denganjelas, hal ini disebabkan lamanya waktupengetsaan belum tepat. Gambar2a menunjuukkan waktuetsa terlalu cepat (singkat) 35 detik.

Pada gambar 2b, terlihat bahwa daerah batas antarbutir semakin jelas, hal ini karena waktu etsa cukup se­hingga reaksi antara reagen dan logamnya tepat (bereaksisempuma), sehingga pengupasan butir sempuma yaitupada pengetsaan dengan reagen A.

Apabila waktuetsa lebih lama maka terjadi kelebih­an reaksi yang menyebabkan permukaan logam terbakarakibat panas yang dihasilkan interaksi antara reagen danlogam, yang dapat dilihat di bawah mikroskop. Hasilfotografinya akan terlihat gelap karena sinaryang datangdari alat potret diserap oleh permukaan logam yang ter­bakar(Gambar 2c).

B. Pcn!!aruh Rea!!cn Pcn!!etsaPengetsaan sebenamya merupakan proses korosi

terkontrol yang ditimbulkan oleh aksi elektronikdiantaraluasan permukaan yang mempunyai potensial berlainan.

Mekanisme pengetsaan dapat diterangkansebagai berikut : Pada logam murni atau paduan berfasa

I

299

Serpong, 9-10 Februari 1993PRSG, PPTKR -BATAN

tunggal seperti paduan aluminium terdapat perbedaanpotensial diantara :

- butir-butir dengan onentasi berbeda- batas-batas butir dan butir "interior"

- fasa pengotor dan matriks- gradien konsentrasi

Perbedaan potensial ini digunakan untukmengontrol pelarutan atom-atom pada sa at proses etsasedang berlangsung. Struktur mikro akan diperlihatkanberdasarkan pada pelarutan selektif dari atom-atom itusendiri. Pelarutan ini dimulai dari permukaan dan dite­ruskan sampai ke bagian dalam. Karena ada perbedaanlaju pelarutan, maka struktur mikro yang berada pada

\

bahan dapat tampil sebagaimanaterlihatdalamfotografi.Selama terjadi proses etsa, atom-atom logam (M)

pada permukaan anoda ditransfer ke larutan (reagen)pengetsa. Sebelumnya atom tersebut diserap (diabsorpsi)oleh permukaan logam sebagai berikut (5,6) :

M =====> M n+ + n e'ad aq

Ion logam Mn+membentuk ikatan dengan molekulair berkat benturan gaya-gaya dipol ion sehingga ion

logam tersebut berada dalam bentuk terhidrasi (Mat).Akhimya kation-kation dilepaskan dari permukaan kedalam larutan setelah hidrasi berlangsung sempurna.Logam yang telah dietsa tidak selalu bereaksi denganreagen untuk membentuk hidrat, namun dapat pulamembentuk ikatan komplek atau senyawa yang tidaklarut sebagai endapan pada permukaan logam.

Fenomena diatas diduga dapat menerangkan hasil

fotografi mikroskopik dan logam paduan AIM~ danAIMgSi setelah mengalami pengetsaan.

Prosidillg Semjllar Teknologi dall Keselamatall PLTNserta Fasilitas Nuklir

(a)

Serpollg, 9-10 Februari 1993

PRSG, PPTKR - BATAN

Hal ini terjadi pula pada proses pengetsaandenganmetoda penetcsan (Gambar 4).

(b)

Gambar 3. Struktur mikro AIM~ yang dietsa dengan reagen B (a) dan reagen C (b) secara"swab etching". (Reagen A lihat Gambar 2b). Pembesaran 100 X.

Tampak bahwa rcagen C menghasilkan [oto lebihkontras jelas dan menampakkan daerah batas butir lebihbaik dari reagen B dan A (Gambar diatas)

Hasil [otografi yang kurang jelas karena log amdietsa oleh reagen A,B dapat juga disebabkan oleh

adanya asam kuat HCI dan HNO) dalam jumlah yangrelati[ banyak sehingga terjadi interaksi dengan logamdan terbentuknya pengotor logam lainnya yangterkumpulpada permukaan dan menutupi butir dan batas butir.

(a)

Dari gambar 3 dan 4 di atas, temyata regen Cmemberikan hasil [oto relatifterbaik dim ana batas butir

dan butirannya sendiri dapat dibedakan dengan jelas.Adanya bentuk-bentuk lonjong disebabkan olehperlakuan canai dingin terhadap material.

(b) (c)

Gambar 4. Struktur mikro AlMg2 yang diets a dengan reagen A (a), B (b), C(c) Dengan metoda penetesan ..

300

Prosiding Seminar T elawlogi dan Keselamatan PLTNserta Fasilitas Nuklir

2. Pcnl!ctsaan AIMI!SIPada waktu pengetsaan beriangsung diperkirakan

bahwa potensial kimia antara butir dan batas butir tidak

terialu berbeda sehingga menimbulkan kesulitan padapenampilan strulctur mikro yang kontras.

Pengaruh reagen pengetsa pada logam paduan

AlMgSi temyata mirip dengan AlMgz. Seperti terlihatpada Gambar 5, reagen C memberikan hasil fotografirelatifbaik bila dibandingkan dengan reagen lainnya.Hal ini dapat disebabkan reagen C hanya mengandungasam kuat HCl dalam jumlah relatif sedikit (sebandingdengan HF dan air) dan HF berfungsi aktif melarutkanSi sehingga kenampakan permukaan logam menjadilebih jelas, ("swab etching").

(a)

(b)

Serpong, 9-10 Februari 1993PRSG, PPTKR - BArAN

pada metoda penetesan, setelah reagen diteteskankemudian logamnya digoyang-goyang menyebabkanreaksi berlangsung kontinyu dan merata pada daerahtetesan.

IV. KESIMPULAN

1. Dari penelitian ini diperoleh kesimpulan bahwa reagen

pengetsa yang tepat untuk AlMgz dan AlMgSi yaitucampuran HCl, HF dan air pada perbandingan 1: 1 :1 dengan waktu etsa 35 detik. Dengan ditemukannyareagen pengetsa yangtepat ini,maka untukselanjutnyadisarankan menggunakan reagen tersebut sebagailarutan pengetsa paduan logam aluminium, sehinggakesulitan-kesulitan yang timbul pada proses etsakarena belum ditemukannya reagen yang tepat dapatdiatasi.

(c)

Gambar 5. Strulctur mikro AlMgSi yang dietsa dengan raegenA (a), B (b), C (c) secara "swab etching".

Dengan metoda penetesan, ternyata reagen Cjuga memberikan gambar foto relatif baik di antarareagen yanglain (Gambar 6).

Jika antara metoda "swab etching" danpenetesandibandingkan, maka akan terlihat bahwa etsa

secara penetesan memberikan hasil foto lebihjelas dankontras (Gambar 5 & 6 ).

Yang menjadi dasar perbedaan disini adalahmetodanya, dimana pada "swab etching" reagen dioleskanpada permukaan logam sehingga menyebabkan reaksiantara logam dan reagen terputus-putus. Sedangkan

301

2. Metoda penetesan memberikan hasil foto lebih jelas,kontras dan menampilkan butirdandaerah batas butir

lebih baik dari pada "swab etching", terutama padaAlMgSi.

3. Faktor penting yangjuga mempengaruhi keberhasilan

"etching" (pengetsaan) adalah konsentrasi campuranreagen, karena besamya konsentrasi reagen ini berkaitan langsung dengan waktu/lamanya proses etsa.

Prosidillg Semillar TdalOlogi dall Kesdamalall PLTNserla Fasililas Nuklir

(b)

(a)

(c)

Serpollg, 9-10 Februari 1993PRSG, PPTKR - BATAN

Gambar 6. Struktur mikro AlMgSi yang dietsa yang dietsa dengan reagen A (a), B (b), C(c) dengan metodapenetesan.

V. DAFTAR PUSTAKA.

1. BENJAMIN, M, "Nuclear Reactor Material and Applications", hal. 290-295, Van Nostrand Reinhold, Coy.,New York, 1983.

2. PANDIT,I, "Studi Perbandingan Sifat Mekanis Peleburan Kembali "Scrap" AlMg2 Sebagai Bahan KelongsongElemen Bakar RSG-GAS, Thesis, IT-VI, Jakarta, 1989.

\

3. PETZOW, G, "Metallographic Etching", hal. 24-40, American Society For Metals, Ohio, 1978.

4. MUCHLIS, B., "Statiscal Method of Grain Size Measurements and Its Interpretation on Various Type ofZircaloy­4 after Heat Treatment", Final ReportofIAEA-RC No. INS 17328/6024 RB, 1992.

5. GEORGE F. V ANDER VOORT, "Metallography Principles and Practice", pp. 166-178, 1984.

6. SCHATT, W., WORCH, H., "The Development of Metallography Structures by Solution", Neue Huette, vol.14, pp. 685-690,1969.

302

Prosiding Seminar Telawlogi dall Keselamatan PLTNserta Fasilitas Nuklir

DISKUSI

Serpong, 9-10 Februari 1993PRSG, PPTKR -BATAN

Penanya

Apa dasarnya pengambilanselangwaktu 35-55-80, selangwaktunya ± 20dctik. Sudah adakah standarmctoda etchingcara swap dan ataupun tetcs ?

ERIC

Dasa r pcnga mbilan wa ktu di atas ka rena tela h dilakuka n peng-etsa -an anta ra 20-86 dt denga n sela ng 2 deti k 20,22,24dst. Dari hasil di atas diambil pendekatan yang paling baik hasil fotografinya pada kondisi perlatan/operasi yangsamauntuk reagen A diambil 35" - 55" dan 80". Dasar ini juga yang diterapkan untuk reagcn B dan C.Standard waktu untuk metoda tidak ada, tetapi ada standar waktu untuk bcberapa rcagen dipakai untuk bcrbagailogam. Misal: Reagen Kelter's waktunya bebcrapa dctiksampai 4 menit. Sctclah dicoba pakai ternyata hasilnya masihbelum mcmbcrikan fotografi kontras dan batas butir balum dapat dibcdakan ..

. \

Dilakukan penclitian ini dcngan memakai campuran lain dengan cara Trial and Error. Sehingga didapatkan hasilyang baik.

TRIWlKANTORO

1. Dari komposisi larutan pcng-ctcha, hno3 dibuat konstan, mcngapa ?2. Bcrapa konsentrasi masing-masing larutan ?

Mcngapa tidak dipakai konsentrasi yang bcrvariasi ?

ERIC JR

1. HNO) tidak konstanHNO) [1.40]HCL [1.19]HF [40 %]

a. Karena kalau konsentrasi masing-masing larutan bcrvariasi tcntunya akan didapat konsentrasi dari campuranrcagcn yang elbih jauh bcrbeda karcna pengenceran ataupun pemekatan.

b. Mcngingat asam-asam yang dipakai tennasuk asam kuat, maka dengan konsentrasi yang sama dcngan komposisicampuran yang divariasikan dengan sendirinya konsentrasi masing-masing lantas akan bcrubah.

c. Diharapkan dari konsentrasi yangsama campuran mana menghasilkan gambar fotografi yang Icbih kontras, dapatdiamati batas butir distribusi dan lainnya yang berhubungan dengan masalah mctalografi .

•

303